次世代TFT-LCD光阻塗佈製程與設備之研發---總計畫; Processes and Equipment Development for Next Generation TFT-LCD

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Title:	次世代TFT-LCD光阻塗佈製程與設備之研發---總計畫;Processes and Equipment Development for Next Generation TFT-LCD
Authors:	周復初;董必正;傅群超;潘敏俊
Contributors:	機械工程學系
Keywords:	旋轉塗佈;狹縫式塗佈;噴墨式塗佈;光電工程;化學工程類
Date:	2005-07-01
Issue Date:	2010-11-30 15:12:19 (UTC+8)
Publisher:	行政院國家科學委員會
Abstract:	由於LCD 的需求日益增加，預期將為業界帶來復甦，可惜的是其中重要的關鍵性技術，竟被日、韓所把持，台灣人花大把的鈔票在購買專利、機台和技術轉移方面，卻僅能賺取微薄的代工費用，相當令人惋惜。因此製程突破與機台開發，已是刻不容緩之事。彩色濾光片，LCD 中最重要的組件，成本亦最高，一般製作均採旋轉塗佈，造成光阻大量浪費，而狹縫式塗佈，受限於塗佈視窗狹小與平坦度的缺點，另外噴墨塗佈則有定位、衛星液滴、耗時等問題，各有利弊。本計畫在將學術面建立狹縫式與噴墨式塗佈視窗，機台部分，改進塗佈液儲存與輸送裝置及主動式避震器，系統控制面，將控制壓電材料的作動，實際應用面，開發噴墨頭模組。最後，創新製程，以實驗為基礎，搭配硬體的設計與控制系統的整合來達到。不單提升國人技術，更要超越日、韓，開發出次世代的TFT-LCD 光阻塗佈機。研究期間：9308 ~ 9407
Relation:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
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