紫外光及深紫外光濾光片之研製---子計畫三:紫外及深紫外光薄膜奈米結構製作與特性之分析(I); Nano-Lithography and Characterization of Optical Thin Films(I)

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題名:	紫外光及深紫外光濾光片之研製---子計畫三:紫外及深紫外光薄膜奈米結構製作與特性之分析(I);Nano-Lithography and Characterization of Optical Thin Films(I)
作者:	李建階
貢獻者:	光電科學研究中心
關鍵詞:	次波長光柵;電子束微影;紫外光;深紫外光;濾光片;光學薄膜;有效介質理論;嚴格耦合波理論;光電工程
日期:	2005-07-01
上傳時間:	2010-11-30 16:04:26 (UTC+8)
出版者:	行政院國家科學委員會
摘要:	次波長光柵偏極化轉變性在光學設計上有極多的應用，利用次波長結構之功能即能將其製作完成，而且由光柵表面的變化，可藉以調變介質材料之均向性本質來形成一人工的雙折射效應。而現今之奈米等級的各項微光電及微製造技術需要非常高的光學解析能力，所以要提升解析能力，只有尋求更短波長如紫外光及深紫外光。本計畫擬探討以電子束微影製程技術及並結合多層光學薄膜之功能，利用二階有效介質理論與嚴格耦合波理論進行模擬，再由實際製作穿透式及反射式次波長光柵元件之實驗結果對應於理論上的模擬計算，以獲致更多的光在次波長尺度下傳遞行為的知識。並進一步研製上述紫外光及深紫外光的光學系統所需之各種濾光片，如抗反射膜、高反射鏡、偏振分光鏡、帶通濾光片及相位片等等。利用薄膜次波長光柵其所展現之雙折射性提升各種濾光片的光學成效。研究期間：9308 ~ 9407
關聯:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:	[光電科學研究中心] 研究計畫

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