次世代TFT-LCD 光阻塗佈製程與設備之研發---總計畫(II);+B3638The Study of Photo-Resistant Coating Process and Plant in TFT-LCD(II)

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Title:	次世代TFT-LCD 光阻塗佈製程與設備之研發---總計畫(II);+B3638The Study of Photo-Resistant Coating Process and Plant in TFT-LCD(II)
Authors:	周復初;潘敏俊;董必正;傅群超
Contributors:	機械工程學系
Keywords:	狹縫式塗佈;LC;光電工程;化學工程類
Date:	2006-07-01
Issue Date:	2010-12-06 15:08:49 (UTC+8)
Publisher:	行政院國家科學委員會
Abstract:	近年來由於生產技術的進步，LCD價格越來越便宜，因此刺激整個市場的買氣，導致LCD產量迅速攛升。而且LCD已經是新出廠個人電腦的標準配備了，而且現今各種顯像設備均使用LCD為主要媒介。但是由於LCD旋塗所用之感光染料價格非常的昂貴；所以若能減少感光染料的塗佈量及生產時間，必能使LCD生產成本大量的減低和生產效率提高，這也是本研究的重要目的。目前LCD製程主要是以旋轉塗佈（Spin Coating）方式將感光染料塗佈於基板上。本實驗所使用的狹縫式塗佈模式與以往使用在矽晶圓上的塗佈模式大不相同。所以在塗佈的過程中其液膜的擴展情形及液動不穩定之機制是非常值得探討的。在狹縫式塗佈中，可塗佈的視窗是狹小的，同時會有需多的缺陷，如空氣滲入（air entrainment）、溪狀（rivulet）、耙形線（rake line），本實驗利用此新式的狹縫式塗佈機台求得LCD於狹縫塗佈時之塗佈注入量、塗佈間距（coating gap）、狹縫間距（slot gap）、不同流體對完整覆膜的影響，並配合狹縫頭的設計，進而找出最佳注液模式，使感光染料減量及塗佈的更加均勻。如此不但可節省製程成本，更可製造出品質完美之LCD，並提供業界作為製程提升之參考。研究期間：9408 ~ 9507
Relation:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
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