體積全像光學元件之布拉格選擇性之研究(I); Study of Bragg Selectivity of Volume Holographic Optical Elements(I)

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題名:	體積全像光學元件之布拉格選擇性之研究(I);Study of Bragg Selectivity of Volume Holographic Optical Elements(I)
作者:	孫慶成
貢獻者:	光電科學研究所
關鍵詞:	體積全像(volume holography);Bragg 選擇性(Bragg selectivity);鋰酸鈮晶體(LiNbO3);體積全像光學元件(volume holographic optical element);光電工程
日期:	2006-07-01
上傳時間:	2010-12-06 16:16:01 (UTC+8)
出版者:	行政院國家科學委員會
摘要:	本研究計畫是一個為期三年的整合型計畫，計畫主題是體積全像紀錄材料、光學元件與光資訊應用之研究，共包括五個子計畫，本計畫負責其中之體積全像光學元件之空間與時間選擇性之研究。在計畫執行三年中，主要的研究目的在於建立一個準確而快速的計算模型，從模擬計算中獲得各種架構下的空間與時間選擇性的特徵，我們將以自己建立之相位疊加法(VOHIL)為計算基礎，依照不同應用架構計算出繞射光的變化特性以作為架構參數設計的輔助；當所有相關參數確定後，再進一步以實驗驗證，藉由反覆驗證修正的流程，我們可以得到與實際狀況相符合的計算模型，而突破傳統計算之限制。其次是利用自有的計算模型廣泛地研究複雜體積全像之 Bragg 選擇性，並藉此設計成像式之體積全像光學元件與濾波器。在計畫的第一年我們將建立更快速之計算模型並利用相位疊加法用於複雜體積全像之計算以尋找特殊Bragg 窗口以設計透鏡式體積全像光學元件。在第二年，我們將以第一年之理論計算為基礎，藉由實驗驗證複雜體積全像之繞射特性，並配合子計劃二與子計劃三之多摻雜LiNbO3 雙光子定像技術，發展體積全像繞射元件。我們將依照從廣泛計算所獲得之Bragg 選擇性，設計並驗證反射式體積全像繞射元件，並將以實驗驗證。在第三年中我們將發展強耦合之理論計算模型以應用於複雜體積全像之繞射行為之模擬並設計並驗證高繞射效率之體積全像光學成像元件與濾波器。研究期間：9408 ~ 9507
關聯:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:	[光電科學研究所] 研究計畫

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