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    題名: 波長調制之外差干涉術於精密位移量測之研究;Study on Precision Measurement of Displacement by Wavelength-Modulation Heterodyne Interferometry
    作者: 李朱育
    貢獻者: 光機電工程研究所
    關鍵詞: 位移(displacement);波長調變(wavelength modulation);外差干涉術(heterodyne interferometry);繞射光柵(diffraction grating);光電工程
    日期: 2007-07-01
    上傳時間: 2010-12-21 16:21:04 (UTC+8)
    出版者: 行政院國家科學委員會
    摘要: 奈米檢測技術中,掃針式顯微鏡(SPM)需要有奈米級的量測或定位裝置來提供試片與探針相對位置的資訊。然而機械運動的過程中,一定會引入其他的系統誤差量。例如,一維的線性位移平台在作動時,將伴隨著側向偏移(lateral dispacement),滾轉(roll),起伏(pitch)與搖擺(yaw)等的誤差量。這些誤差的控制,將是該位移平台優劣的指標。許多精密位移平台都配有感測器(如電容式位移感測器,光學尺等),作為閉迴路的控制感測元件。但一個位移感測器只提供一個維度的量測,若系統需要多維度的量測,則需要組裝多個位移感測器,而且彼此間必須有良好的正交程度。另一方面,現有位移量測技術多屬同頻(homodyne)偵測模式,其量測解析度有限。因此本計畫的目的是開發一種以外差干涉術為基礎,結合光柵位移引入相位變化的側向位移量測技術、縱向位移量測技術與滾轉位移量測技術;並且提出一新的外差調製方式,將波長受調製的二極體雷射光,分出兩個不同長度的光路,然後再結合起來干涉。由於光程差以及波長變化的關係,干涉訊號會出現類似外差干涉的現象。接著將此外差光源與光柵繞射技術結合起來,利用偵測光柵位移所引入的相位,可推導出光柵的側向位移或滾轉位移。預期可大幅提高量測解析度與量測範圍。 研究期間:9508 ~ 9607
    關聯: 財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
    顯示於類別:[光機電工程研究所 ] 研究計畫

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