二氧化矽/碳粉氮化反應動力學之研究;A Kinetic Study on the Nitridation of Silicon Dioxide/Carbon

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Title:	二氧化矽/碳粉氮化反應動力學之研究;A Kinetic Study on the Nitridation of Silicon Dioxide/Carbon
Authors:	張奉文
Contributors:	中央大學化學工程與材料工程研究所
Keywords:	化學工程類;二氧化矽;碳粉;氮化;動力學;氮化矽;Silicon dioxide;Carbon powder;Nitridation;Kinetics;Silicon nitride
Date:	1993-09-01
Issue Date:	2012-10-01 11:09:15 (UTC+8)
Publisher:	行政院國家科學委員會
Abstract:	氮化矽(Silicon Nitride, Si/sub 3/N/sub 4/)能廣泛地應用於電子工業,精密工業用之研磨材及半導體用的製造器具等.因此近幾年來成為世界各主要先進國家競相研究及開發的對象.故氮化矽的製造是非常值得國人努力及研究的目標.本研究擬以熱重分析法(TGA)並配合管狀反應系統, 進行純二氧化矽在碳粉存在下氮化生成氮化矽之反應動力學探討.所欲探討的主要內容有:ぇ進行二氧化矽/碳粉之氮化反應實驗,探討之主要影響反應因素有......反應溫度,氣體流率,顆粒大小,造粒壓力,C/SiO2莫耳數比,二氧化矽及碳之粉粒大小等.え進行各項物性測試,如:比表面積,孔隙度,成分測定及表面結構等.ぉ進行動力學分析,求得反應級數,反應速率常數及活化能等.�建立動力學模式及反應速率方程式. ; 研究期間 8108 ~ 8207
Relation:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
Appears in Collections:	[National Central University Department of Chemical & Materials Engineering] Research Project

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