以新穎全像材料PQ:DMNA/PMMA同時達成多雷射同調光束合併與光束整形 ;Simultaneously Achieving Laser Coherent Beam Combining and Beam Shaping Using Pq:Dmna/Pmma

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題名:	以新穎全像材料PQ:DMNA/PMMA同時達成多雷射同調光束合併與光束整形;Simultaneously Achieving Laser Coherent Beam Combining and Beam Shaping Using Pq:Dmna/Pmma
作者:	鍾德元
貢獻者:	國立中央大學光電科學與工程學系
關鍵詞:	光電工程;半導體雷射;同調光束合併;輸出光譜窄化;光束整形;PQ:PMMA;PQ:DMNA/PMMA;全像;Diode laser;coherent beam combining;spectrum narrowing;beam shaping;PQ:PMMA;PQ:DMNA/PMMA;hologram
日期:	2018-08-01
上傳時間:	2018-05-02 16:48:23 (UTC+8)
出版者:	科技部
摘要:	半導體雷射目前為最廉價之雷射，有著輸出功高、大增益頻寬等優秀特性，然而其輸出之空間與光譜特性極差，因此難以取代其他傳統雷射；進行半導體雷射輸出特性改善所需之架設複雜昂貴且效率不佳；另外而由於半導體材料之限制，單一半導體雷射輸出功率亦無法輕易增加。本計劃提出以新穎全像儲存材料PQ:DMNA/PMMA 作為光學元件，以極簡化之架構同時達成雷射輸出光譜窄化、光束整形與同調光束合併。此計畫將分三年完成，第一年目標為發展穩定之材料製備流程與配方、材料各種光學特性之量測，並開發長同調長度高功率半導體雷射光源；第二年為研究紀錄此材料之參數與優化條件、研究雷射相位鎖定條件與架構，並建構大功率同調光源以利全像光學元件製作；第三年完成單一半導體雷射輸出光譜窄化及光束整形、多半導體雷射同調光束合併、輸出光譜窄化、光束整形。
關聯:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:	[光電科學與工程學系] 研究計畫

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