English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文筆數/總筆數 : 80990/80990 (100%)
造訪人次 : 41617108      線上人數 : 1128
RC Version 7.0 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
搜尋範圍 查詢小技巧:
  • 您可在西文檢索詞彙前後加上"雙引號",以獲取較精準的檢索結果
  • 若欲以作者姓名搜尋,建議至進階搜尋限定作者欄位,可獲得較完整資料
  • 進階搜尋


    請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.lib.ncu.edu.tw/handle/987654321/94082


    題名: 低維度材料之關鍵技術整合於建構前瞻半導體元件之研究-低維度材料之關鍵技術整合於建構前瞻半導體元件之研究( II );The Research on Low-Dimensional Materials on Advanced and High Performance Electronics Integration( II )
    作者: 蘇清源;藍彥文
    貢獻者: 國立中央大學光電科學研究中心
    關鍵詞: 二維材料;異質整合三維IC;電晶體;低功耗記憶體;鐵電電晶體;2D materials;heterogeneous 3D ICs;Field-effect transistors;lower power memory;Ferroelectric field effect transistors
    日期: 2024-09-27
    上傳時間: 2024-09-30 15:52:11 (UTC+8)
    出版者: 國家科學及技術委員會(本會)
    摘要: 二維半導體材料是下世代技術節點的候選材料,而在導入實際的元件應用前,仍有許多技術瓶頸需要克服,包含材料合成、關鍵製程與設備、功能性元件驗證等,本研究將探索與挑戰上述這些關鍵問題,並評估在各製程可能遭遇的問題,提供進入元件製造前的可行性解決方案。除了對於二維半導體材料、介面科學的基礎研究外,也延伸到元件製作與應用等工程分析,並對於下世代的半導體科技、光電產業與前瞻電子材料之人才培育有重要的影響。
    關聯: 財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
    顯示於類別:[光電科學研究中心] 研究計畫

    文件中的檔案:

    檔案 描述 大小格式瀏覽次數
    index.html0KbHTML35檢視/開啟


    在NCUIR中所有的資料項目都受到原著作權保護.

    社群 sharing

    ::: Copyright National Central University. | 國立中央大學圖書館版權所有 | 收藏本站 | 設為首頁 | 最佳瀏覽畫面: 1024*768 | 建站日期:8-24-2009 :::
    DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 隱私權政策聲明