極紫外光光罩高反射鏡上吸收層的研究;Research on the Absorbing Layer on the Highly Reflective Mirror of Extreme Ultraviolet Light Mask

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題名:	極紫外光光罩高反射鏡上吸收層的研究;Research on the Absorbing Layer on the Highly Reflective Mirror of Extreme Ultraviolet Light Mask
作者:	郭倩丞
貢獻者:	國立中央大學光電科學與工程學系
關鍵詞:	極紫外光;微影蝕刻;反射鏡;離子束濺鍍系統;緩衝層;吸收層;Extreme ultraviolet light;photolithography;mirror;ion beam sputtering system;buffer layer;absorption layer
日期:	2024-09-27
上傳時間:	2024-09-30 15:53:16 (UTC+8)
出版者:	國家科學及技術委員會(本會)
摘要:	本計劃執行後，將解決目前台灣對於半導體之極紫外光(EUV)波段高反射鏡之光學薄膜問題，藉由離子束濺鍍系統(Ion Beam Sputtering， IBS)系統使研究單位與業界對於EUV光學元件的製作有更多的選擇，與儀科中心共同開發的製程可擺脫目前國內對國外EUV反射鏡元件廠商的依賴，並自主建立具有EUV波段鍍膜設備與鍍膜能力，其技術內容如下： 1. 極紫外反射鏡光學鍍膜技術； 2. 雙離子束濺鍍系統(Dual Ion Beam Sputtering， DIBS)系統操作； 3. 介面工程優化； 4. 建立X光波段薄膜模型數值模擬能力； 5. 薄膜應力與薄膜結晶的關係分析；
關聯:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:	[光電科學與工程學系] 研究計畫

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