English
| 正體中文 |
简体中文
|
全文筆數/總筆數 : 80990/80990 (100%)
造訪人次 : 40893672 線上人數 : 643
RC Version 7.0 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by
NTU Library IR team.
搜尋範圍
全部NCUIR
理學院
物理學系
--研究計畫
查詢小技巧:
您可在西文檢索詞彙前後加上"雙引號",以獲取較精準的檢索結果
若欲以作者姓名搜尋,建議至進階搜尋限定作者欄位,可獲得較完整資料
進階搜尋
主頁
‧
登入
‧
上傳
‧
說明
‧
關於NCUIR
‧
管理
NCU Institutional Repository
>
理學院
>
物理學系
>
研究計畫
>
Item 987654321/94172
資料載入中.....
書目資料匯出
Endnote RIS 格式資料匯出
Bibtex 格式資料匯出
引文資訊
資料載入中.....
資料載入中.....
請使用永久網址來引用或連結此文件:
http://ir.lib.ncu.edu.tw/handle/987654321/94172
題名:
超短超強雷射與近臨界密度電漿交互作用之研究
;
Research on Ultrashort Intense Laser Interaction with Near-Critical-Density Plasmas
作者:
白植豪
貢獻者:
國立中央大學物理學系
關鍵詞:
強場雷射物理
;
超快雷射技術
;
高功率雷射
;
雷射電漿交互作用
;
雷射加速器
;
電漿非線性光學
;
High-field physics
;
Chirped-pulse amplification
;
Ultrafast optics
;
Laser plasma interaction
;
Laser plasma acceleration
;
Plasma nonlinear optics
日期:
2024-09-27
上傳時間:
2024-09-30 17:09:33 (UTC+8)
出版者:
國家科學及技術委員會(本會)
摘要:
在此計畫中,我們將以流體模擬設計高壓噴嘴,噴嘴所需氣體由超高壓的氣體鋼瓶經由增壓器產生1000倍大氣壓提供。結合雷射游離技術,我們將實現可程式控制近鄰界密度氣體靶的研發,可線上控制靶的厚度與斜坡。這項技術將用於雷射質子加速器及相關近臨界雷射電漿的實驗研究。預期幫助我們了解交互作用的物理,並優化雷射質子加速器的品質。
關聯:
財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:
[物理學系] 研究計畫
文件中的檔案:
檔案
描述
大小
格式
瀏覽次數
index.html
0Kb
HTML
27
檢視/開啟
在NCUIR中所有的資料項目都受到原著作權保護.
社群 sharing
::: Copyright National Central University. | 國立中央大學圖書館版權所有 |
收藏本站
|
設為首頁
| 最佳瀏覽畫面: 1024*768 | 建站日期:8-24-2009 :::
DSpace Software
Copyright © 2002-2004
MIT
&
Hewlett-Packard
/
Enhanced by
NTU Library IR team
Copyright ©
-
隱私權政策聲明