應用於半導體製程氣體特性監控之智慧型波前感測技術開發(II);Smart Wavefront Sensing for Gas Measurement in Semiconductor Processing (II)

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題名:	應用於半導體製程氣體特性監控之智慧型波前感測技術開發(II);Smart Wavefront Sensing for Gas Measurement in Semiconductor Processing (II)
作者:	韋安琪;施至柔
貢獻者:	國立中央大學能源工程研究所
關鍵詞:	電漿製程;氣體濃度分佈感測;氣體折射率分佈感測;改良式Hartmann二維光柵;Plasma processing;Gas density meter;Gas refractometer;Modified-Hartmann-2D-grating sensor
日期:	2024-09-27
上傳時間:	2024-09-30 17:10:00 (UTC+8)
出版者:	國家科學及技術委員會(本會)
摘要:	本計畫延續前期之波前感測技術，預計第一年增補現有設備以建置低壓與電漿環境，研製電漿環境氣體濃度感測系統，以於電漿環境下感測氣體折射率分布並換算濃度分布；第二年將自製改良式Hartmann 二維光柵(Modified Hartmann 2D Grating， MHG)元件，搭配影像感測器，組成改良式Hartmann 二維光柵感測裝置，以提升系統解析效能。此電漿環境氣體折射率及濃度分佈檢測技術之研發，有助於提升精準製程之監控能力，並促進關鍵製程設備之自主研發。
關聯:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:	[能源工程研究所 ] 研究計畫

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