雷射產生電漿極紫外光源之模擬研究;Simulation Study of Laser-Produced Plasma Extreme Ultraviolet Light Sources

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題名:	雷射產生電漿極紫外光源之模擬研究;Simulation Study of Laser-Produced Plasma Extreme Ultraviolet Light Sources
作者:	陳仕宏
貢獻者:	國立中央大學物理學系
關鍵詞:	雷射電漿作用;極紫外光;原子物理;碰撞輻射平衡;laser plasma interactions;extreme ultraviolet light;atomic physics;collisional radiative equilibrium
日期:	2025-07-31
上傳時間:	2025-08-07 17:11:40 (UTC+8)
出版者:	國家科學及技術委員會(本會)
摘要:	雷射電漿極紫外光源是半導體先進製程極為重要的關鍵技術，台灣是半導體製造的主導大國，科技部每年也投入了許多資金在半導體相關的研究上，但是台灣在電漿產生極紫外光源技術的研究卻相當缺乏，我們在這方面的模擬研究工作將填補這一份空缺，目前本實驗團隊有兩位博士生正在參與相關研究，並持續與台積電合作，除了在合作過程將學生送到台積電研發部門實習研究，我們合作開發的計算模擬程式與他們實驗量測結果也會透過機器學習方法，建立專家系統，作為他們調整實驗參數的依據。我們所使用的研究方法也可以應用到其他涉及輻射量測光譜的相關研究，例如在核融合或是太空電漿系統研究中，對於科學研究將有重要貢獻。
關聯:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:	[物理學系] 研究計畫

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