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| DC.contributor | 光電科學與工程學系 | zh_TW |
| DC.creator | 黃式明 | zh_TW |
| DC.creator | Xie-Ming Huang | en_US |
| dc.date.accessioned | 2000-6-28T07:39:07Z | |
| dc.date.available | 2000-6-28T07:39:07Z | |
| dc.date.issued | 2000 | |
| dc.identifier.uri | http://ir.lib.ncu.edu.tw:444/thesis/view_etd.asp?URN=87226033 | |
| dc.contributor.department | 光電科學與工程學系 | zh_TW |
| DC.description | 國立中央大學 | zh_TW |
| DC.description | National Central University | en_US |
| dc.description.abstract | 本文是探討氫氣對成長類鑽碳膜的影響，研究中薄膜是利用雷射誘發化學氣相沉積法，以氫氣、乙烯和氬氣為反應氣體，沉積在Si（100）、P型晶片上，藉以找出最重要的沉積參數。薄膜的組成與結構是由SEM、Dektak、FTIR與Raman光譜技術來檢測之。實驗結果顯示氫含量的增加有助於薄膜形成sp3鍵結，而且抑制石墨的產生。另外，我們也在薄膜中發現了天然鑽石才有的 1332cm-1峰值。 | zh_TW |
| DC.subject | 雷射誘發化學氣相沉積法 | zh_TW |
| DC.subject | 鑽石薄膜 | zh_TW |
| DC.subject | LCVD | en_US |
| DC.subject | Diamond films | en_US |
| DC.title | 氫氣對二氧化碳雷射誘發化學氣相沈積法成長碳質膜之影響 | zh_TW |
| dc.language.iso | zh-TW | zh-TW |
| DC.type | 博碩士論文 | zh_TW |
| DC.type | thesis | en_US |
| DC.publisher | National Central University | en_US |