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DC.contributor | 化學工程與材料工程學系 | zh_TW |
DC.creator | 洪麗娟 | zh_TW |
DC.creator | Li-Jian Hung | en_US |
dc.date.accessioned | 2000-6-22T07:39:07Z | |
dc.date.available | 2000-6-22T07:39:07Z | |
dc.date.issued | 2000 | |
dc.identifier.uri | http://ir.lib.ncu.edu.tw:444/thesis/view_etd.asp?URN=87321021 | |
dc.contributor.department | 化學工程與材料工程學系 | zh_TW |
DC.description | 國立中央大學 | zh_TW |
DC.description | National Central University | en_US |
dc.description.abstract | 研究利用化學反應/共沈澱法製備不同比例CuO/ZrO2觸媒,並在觸媒中加入第二種金屬氧化物如ZnO、Al2O3、Cr2O3、ThO2、Ga2O3等,進行氣相CO2+H2合成甲醇反應,探討以化學還原/共沈澱製備觸媒之可行性,並與傳統碳酸鈉共沈澱法製備觸媒活性做比較。
以硼氫化鈉(NaBH4)化學還原/共沈澱法製備不同比例CuO/ZrO2觸媒中B2O3含量高,ZrO2約63~77%共沈澱析出;加入NaOH製備之觸媒B2O3含量雖大幅減少,但無助於ZrO2共沈澱析出;以碳酸鈉共沈澱法製備觸媒ZrO2共沈澱析出比例最少。加入第二種金屬氧化物中以Zn共沈澱最完全,Th及Ga析出比例偏低。
各組觸媒XRD圖譜均可觀察到CuO特徵峰,且繞射強度隨著CuO含量增加而增加,部份觸媒中另可觀察到Cu2O繞射峰;XRD所觀察到繞射結果與銅表面積量測結果不完全一致,其中以CuO/ZrO2=30/70最顯著,觸媒中ZrO2含量較多時,銅金屬粒子可能被包覆於ZrO2中,以致無法量測得實際銅表面積。
以化學還原/共沈澱法製備不同比例觸媒之TPR圖譜中主要為CuO還原峰,隨著觸媒中ZrO2含量增加,CuO還原溫度往高溫偏移。以化學還原/共沈澱法(NaOH)製備觸媒之CuO還原溫度則不隨CuO/ZrO2比例下降往高溫偏移。
以碳酸鈉共沈澱法製備觸媒過程中明顯觀察到CuO/ZrO2=30/70、
50/50觸媒產生凝膠現象,影響觸媒之全表面積、銅表面積及分散度,且觸媒還原不易。
反應溫度為250℃時,CO2+H2合成甲醇反應有最高轉化率及甲醇產率。ZnO的添加,使CuO和ZrO2有良好的分散性和接觸,明顯提高甲醇選擇率及甲醇產率,添加ThO2、Ga2O3後活性無明顯提升,加入Al2O3或Cr2O3觸媒活性均不佳。 | zh_TW |
DC.title | 以化學還原/共沉澱法製備Cu/ZrO2/metal oxide觸煤應用於CO2+H2合成甲醇反應之研究 | zh_TW |
dc.language.iso | zh-TW | zh-TW |
DC.type | 博碩士論文 | zh_TW |
DC.type | thesis | en_US |
DC.publisher | National Central University | en_US |