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語言 |
| DC.contributor | 光電科學與工程學系 | zh_TW |
| DC.creator | 陳家豪 | zh_TW |
| DC.creator | Chia-Hao Chen | en_US |
| dc.date.accessioned | 2002-7-12T07:39:07Z | |
| dc.date.available | 2002-7-12T07:39:07Z | |
| dc.date.issued | 2002 | |
| dc.identifier.uri | http://ir.lib.ncu.edu.tw:444/thesis/view_etd.asp?URN=89226006 | |
| dc.contributor.department | 光電科學與工程學系 | zh_TW |
| DC.description | 國立中央大學 | zh_TW |
| DC.description | National Central University | en_US |
| dc.description.abstract | 本實驗採用大面積化微波電漿輔助化學氣相沉積系統，研究沉積鑽石薄膜的最佳參數。本研究分為兩個階段，第一階段為改良天線陣列區Arc現象及測試系統的穩定度；第二階段，待系統穩定後，藉由改變系統總壓力及甲烷（CH4）、氫氣（H2）流量等參數，來研究對薄膜品質的影響。另外我們以拉曼散射光譜儀、X-ray繞射儀、掃描式電子顯微鏡及傅立葉紅外光譜儀來鑑定薄膜的特性。在氫氣（H2）流量300 sccm、甲烷（CH4）流量50 sccm、抽氣閥門控制開關在5%的位置、微波功率700W、鍍膜48小時，結果在電子顯微鏡下的表面顆粒結晶較多，經傅立葉紅外光譜儀分析沒有C-H鍵結，X-ray繞射儀沒有明顯的特性峰，薄膜表面結晶顆粒大約在10 nm ~ 20 nm之間。 | zh_TW |
| DC.subject | 微波電漿 | zh_TW |
| DC.subject | 薄膜 | zh_TW |
| DC.subject | 大面積 | zh_TW |
| DC.subject | Large-area | en_US |
| DC.subject | microwave plasma | en_US |
| DC.subject | thin film | en_US |
| DC.title | 大面積低溫微波電漿輔助化學氣象沉積薄膜之研究 | zh_TW |
| dc.language.iso | zh-TW | zh-TW |
| DC.type | 博碩士論文 | zh_TW |
| DC.type | thesis | en_US |
| DC.publisher | National Central University | en_US |