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DC.contributor | 光電科學與工程學系 | zh_TW |
DC.creator | 陳仁祿 | zh_TW |
DC.creator | Ren-Lu Chen | en_US |
dc.date.accessioned | 2003-7-17T07:39:07Z | |
dc.date.available | 2003-7-17T07:39:07Z | |
dc.date.issued | 2003 | |
dc.identifier.uri | http://ir.lib.ncu.edu.tw:444/thesis/view_etd.asp?URN=90226003 | |
dc.contributor.department | 光電科學與工程學系 | zh_TW |
DC.description | 國立中央大學 | zh_TW |
DC.description | National Central University | en_US |
dc.description.abstract | 本論文是在矽基板上用乾蝕刻方式製作微透鏡陣列的模具,形狀為平凹球面,亦可當凹面鏡使用。利用SF6/C4F8混合氣體電漿,調整蝕刻氣體流量、蝕刻時間、上下電極瓦數會造成微模具曲率半徑的改變。
主要利用乾蝕刻的isotropic etching,所以製作出的樣品的底切現象仍相當嚴重,且蝕刻面的可用範圍有限。在一系列的微透鏡樣品中,其中有個樣品利用干涉儀所量測之相位差小於一個波長,其光學性質經量測及計算後,微透鏡的有效直徑(clear aperture)約為130μm,焦距是116μm,其所對應的N.A為0.56。 | zh_TW |
dc.description.abstract | Using ICP dry etch technology to fabricate concave lens on silicon wafer. Try to make spherical or aspherical microlens having different radius of curvature. We use a Twymann-Green interferometer to measure the surface profile. | en_US |
DC.subject | 微透鏡 | zh_TW |
DC.subject | microlens | en_US |
DC.title | 以乾蝕刻製作微透鏡陣列之技術與量測 | zh_TW |
dc.language.iso | zh-TW | zh-TW |
DC.title | Fabrication and Measurement of microlens with dry etching | en_US |
DC.type | 博碩士論文 | zh_TW |
DC.type | thesis | en_US |
DC.publisher | National Central University | en_US |