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語言 |
| DC.contributor | 光電科學與工程學系 | zh_TW |
| DC.creator | 田浩廷 | zh_TW |
| DC.creator | Hao-Ting Tien | en_US |
| dc.date.accessioned | 2003-7-17T07:39:07Z | |
| dc.date.available | 2003-7-17T07:39:07Z | |
| dc.date.issued | 2003 | |
| dc.identifier.uri | http://ir.lib.ncu.edu.tw:444/thesis/view_etd.asp?URN=90226030 | |
| dc.contributor.department | 光電科學與工程學系 | zh_TW |
| DC.description | 國立中央大學 | zh_TW |
| DC.description | National Central University | en_US |
| dc.description.abstract | 論 文 摘 要
利用濕蝕刻的方法，製作出的閃耀式光柵（blazed grating），其blazed angle的大小依靠切割晶體的角度來決定，若是沿著光軸面切割，也能製作出V-Groove形狀的結構。本法的好處在於可以製做出各種角度的光柵，且能將尺度作至約在2μm左右，本文中將討論在哪種週期下的分光效果較好。
因為晶體具雙折射性質在其上塗佈折射率匹配(index matching)的材質，製作出偏極化選擇的繞射式光學元件，使之對入射光的偏極化方向具有選擇性，只讓特定偏極方向的光波產生繞射。又或者可鍍上金屬，作為反射式的光柵，可以使用在光纖通訊系統中。
本文中使用方解石晶體的非等向性濕蝕刻特性，製作閃耀式光柵（blazed grating），其週期在8～16μm，傾斜角度在10～15度。 | zh_TW |
| DC.subject | 濕蝕刻 | zh_TW |
| DC.subject | 方解石 | zh_TW |
| DC.subject | 繞射式光學元件 | zh_TW |
| DC.subject | calcite | en_US |
| DC.subject | wet etching | en_US |
| DC.subject | DOE's | en_US |
| DC.title | 方解石極性選擇繞射式光學元件設計與製作 | zh_TW |
| dc.language.iso | zh-TW | zh-TW |
| DC.title | Fabrication and Design of Polarization-sensitive Diffractive Optical Elements | en_US |
| DC.type | 博碩士論文 | zh_TW |
| DC.type | thesis | en_US |
| DC.publisher | National Central University | en_US |