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DC.contributor | 電機工程學系 | zh_TW |
DC.creator | 林宏誠 | zh_TW |
DC.creator | Hung-Cheng Lin | en_US |
dc.date.accessioned | 2004-7-9T07:39:07Z | |
dc.date.available | 2004-7-9T07:39:07Z | |
dc.date.issued | 2004 | |
dc.identifier.uri | http://ir.lib.ncu.edu.tw:444/thesis/view_etd.asp?URN=91521049 | |
dc.contributor.department | 電機工程學系 | zh_TW |
DC.description | 國立中央大學 | zh_TW |
DC.description | National Central University | en_US |
dc.description.abstract | 摘要
本研究使用氮化鋁鎵銦系列材料製作藍紫光雷射二極體,論文內容著重在雷射二極體的研製與特性分析,目的是論述雷射二極體製程關鍵,並提出兩種新穎製程方式,其一是『藍光雷射自我對準製程』、其二是『以離子佈植選擇性活化技術製造藍光雷射』,分別深入探討此二製程與傳統製程方式差異性,且分別使用此二製程,成功製作出波長405 nm 藍光雷射。內容共分為五個章節:(1) 序論:介紹發展現況、比較Blu-ray Disk與HD DVD兩大規格、磊晶與製程關鍵技術;(2) 雷射二極體結構與製程:以自我對準製程製作藍光雷射,並討論鏡面製作、鏡面鍍膜、熱穩定性分析,整理各研發團隊所使用歐姆接觸金屬、鈍化層材料、鏡面鍍膜條件、使用基板等參數;(3) 雷射特性探討:藉由分析電流電壓特性曲線(I-V curve)、電激發光譜(electroluminescence)、注入電流對光輸出特性曲線(L-I curve)、特徵溫度量測(characteristic temperature)、遠場圖量測分析(far field pattern),來討論雷射二極體的電特性、光特性、對環境溫度的敏感度,並討論如何改善雷射特性,最後探討InxGa1-XN/GaN MQW LD,不同In含量雷射結構,自發放射(spontaneous emission, SPE)、激勵放射(stimulated emission, SE)發光波長位移的物理機制;(4) 以離子佈植選擇性活化技術製造藍光雷射:介紹製程方法,接著以此技術製作成雷射二極體,藉由分析電激發光譜、注入電流對光輸出特性曲線、遠場圖量測分析,來討論雷射二極體的特性。最後藉由導電式原子力顯微鏡量測(conductive-atomic force microscopy, C-AFM),分析經離子佈植選擇性活化後,p型GaN材料表面的粗糙度與導電度;(5)結論。 | zh_TW |
DC.subject | 氮化鎵 | zh_TW |
DC.subject | 雷射二極體 | zh_TW |
DC.subject | Laser diode | en_US |
DC.subject | GaN | en_US |
DC.title | 氮化鎵藍紫光雷射二極體之製作與特性分析 | zh_TW |
dc.language.iso | zh-TW | zh-TW |
DC.type | 博碩士論文 | zh_TW |
DC.type | thesis | en_US |
DC.publisher | National Central University | en_US |