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語言 |
| DC.contributor | 物理學系 | zh_TW |
| DC.creator | 陳建勳 | zh_TW |
| DC.creator | Chien-Hsun Chen | en_US |
| dc.date.accessioned | 2005-7-22T07:39:07Z | |
| dc.date.available | 2005-7-22T07:39:07Z | |
| dc.date.issued | 2005 | |
| dc.identifier.uri | http://ir.lib.ncu.edu.tw:444/thesis/view_etd.asp?URN=92222022 | |
| dc.contributor.department | 物理學系 | zh_TW |
| DC.description | 國立中央大學 | zh_TW |
| DC.description | National Central University | en_US |
| dc.description.abstract | 本實驗主要目的為以電漿輔助化學氣相沉積系統(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition : PECVD)在石英基板上成長平坦的非晶矽薄膜，並進一步以平坦的非晶矽薄膜製作高繞射效率二階相位Fresnel lens。
在實驗中，改變電漿輔助化學氣相沉積系統的SiH4氣體流量、腔體工作壓力、RF power大小，成功沉積出表面粗度小於3nm的非晶矽薄膜。
製作非晶矽薄膜二階相位Fresnel lens時，我們以G-solver軟體模擬及理論計算，求出當以入射光波長633nm，元件所需厚度，以期達到高繞射效率。再利用微影製程及蝕刻技術，製作出二階相位Fresnel lens，當厚度為320nm，有最高繞射效率可達32%，與模擬值34%相當接近。 | zh_TW |
| DC.subject | 繞射光學元件 | zh_TW |
| DC.subject | 非晶矽 | zh_TW |
| DC.subject | Amorphous silicon | en_US |
| DC.subject | DOEs | en_US |
| DC.title | 非晶矽繞射光學元件的製作與分析 | zh_TW |
| dc.language.iso | zh-TW | zh-TW |
| DC.title | Fabrication and Analysis of Amorphous Silicon Diffractive Optical Elements | en_US |
| DC.type | 博碩士論文 | zh_TW |
| DC.type | thesis | en_US |
| DC.publisher | National Central University | en_US |