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語言 |
| DC.contributor | 機械工程學系 | zh_TW |
| DC.creator | 張昌霖 | zh_TW |
| DC.creator | Chang-Lin Chang | en_US |
| dc.date.accessioned | 2005-7-11T07:39:07Z | |
| dc.date.available | 2005-7-11T07:39:07Z | |
| dc.date.issued | 2005 | |
| dc.identifier.uri | http://ir.lib.ncu.edu.tw:444/thesis/view_etd.asp?URN=92323068 | |
| dc.contributor.department | 機械工程學系 | zh_TW |
| DC.description | 國立中央大學 | zh_TW |
| DC.description | National Central University | en_US |
| dc.description.abstract | 摘 要
半導體製程中，對於矽晶圓表層覆膜大多採用旋轉塗佈的方式進行，液體在旋轉塗佈的過程，因為離心力的作用，使得不穩定手指狀流會在連續薄膜波前處產生，如何針對不穩定手指狀流的產生機制加以控制更是目前的重點。
本實驗採用磁性流體作為實驗流體，觀察磁性流體與矽油兩者在旋轉塗佈製程上的差異性，實驗結果發現磁性流體如矽油一般，臨界半徑會隨 Boω 增加而呈現先遞減後增加的趨勢。但是，針對磁性流體而言，這種開口向上拋的曲線之反曲點卻有提前發生的現象；而兩實驗流體隨著Boω > 50 之後逐漸地有匯集的現象。此外，針對磁性流體外加磁場的實驗中發現，磁性流體液膜之臨界半徑特徵長度隨磁場增加而有減少的趨勢。而不穩定手指狀流的數目則隨磁場增加而有增加的現象。 | zh_TW |
| DC.subject | 旋轉塗佈 | zh_TW |
| DC.subject | 不穩定 | zh_TW |
| DC.title | 磁流體旋塗不穩定之研究 | zh_TW |
| dc.language.iso | zh-TW | zh-TW |
| DC.type | 博碩士論文 | zh_TW |
| DC.type | thesis | en_US |
| DC.publisher | National Central University | en_US |