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DC.contributor | 化學工程與材料工程學系 | zh_TW |
DC.creator | 許玉瑩 | zh_TW |
DC.creator | Yu-Ying Hsu | en_US |
dc.date.accessioned | 2005-6-22T07:39:07Z | |
dc.date.available | 2005-6-22T07:39:07Z | |
dc.date.issued | 2005 | |
dc.identifier.uri | http://ir.lib.ncu.edu.tw:444/thesis/view_etd.asp?URN=92324014 | |
dc.contributor.department | 化學工程與材料工程學系 | zh_TW |
DC.description | 國立中央大學 | zh_TW |
DC.description | National Central University | en_US |
dc.description.abstract | 摘 要
本研究利用溶膠-凝膠法以四甲氧基矽烷 (TMOS) 或與矽偶合劑為單體,製備出具有吸附及辨識咖啡因的分子拓印高分子材料,並探討不同製備條件即pH值、R值 (H2O/Si)、偶合劑的種類及添加量對分子拓印之影響。本研究所得分子拓印高分子材料可經由煅燒的方式將模版分子移除,而留下具有與拓印物質互補的辦識位置。
分子拓印高分子的性質可利用高效能液相層析儀 (HPLC) 測量咖啡因鍵結量及選擇性 (α,咖啡因鍵結量與類似物茶鹼鍵結量之比值),且可經由氮氣吸附孔隙儀 (ASAP) 得知,所製備之分子拓印高分子是否具多孔性質。
本研究結果顯示,單獨利用 TMOS 所製備之分子拓印高分子具有狹窄的孔徑分佈,並具有高比表面積 (434.5 m2/g),故可得到較高之咖啡鍵結量 (17 μmol/g)。而反應系統中藉由二官能基矽烷 (KBM-22) 或三官能基矽烷 (KBM-13) 的添加,可改變所得分子拓印高分子的比表面積與孔徑大小。隨著 KBM-13 添加比例的增加,可使咖啡因的鍵結量下降,但是提升分子拓印高分子的選擇性,最高可達7。
而利用煅燒升溫梯度的改變,所得分子拓印高分子之性質也有所不同。在改變煅燒升溫梯度下所得的咖啡因鍵結量,以利用 KBM-13所製備的提升效果較佳,可提升2 ~ 3倍,且選擇性也有明顯提升,最高可達48。 | zh_TW |
DC.subject | 溶膠凝膠法 | zh_TW |
DC.subject | 分子拓印 | zh_TW |
DC.subject | sol-gel | en_US |
DC.subject | MIP | en_US |
DC.title | 利用矽氧烷化合物製備分子拓印高分子 | zh_TW |
dc.language.iso | zh-TW | zh-TW |
DC.type | 博碩士論文 | zh_TW |
DC.type | thesis | en_US |
DC.publisher | National Central University | en_US |