電漿和網版印刷鍍膜材料表面改質

以作者查詢圖書館館藏

、以作者查詢臺灣博碩士

、以作者查詢全國書目

、勘誤回報

、線上人數：12

、訪客IP：18.117.240.120

姓名

蔡明瑞(Ming-jui Tsai) 查詢紙本館藏

畢業系所

機械工程學系

論文名稱

電漿和網版印刷鍍膜材料表面改質
(Surface Modification of Material by Plasma and Screen-Printing Coating)

相關論文

★ 使用實驗計劃法求得印刷電路板微鑽針最佳鑽孔參數	★ 滾針軸承保持架用材料之電鍍氫脆研究
★ 強制氧化及熱機處理對鎂合金AZ91D固相回收製程之研究	★ 滾針軸承保持架圓角修正之有限元素分析
★ 透過乾式蝕刻製作新型鍺全包覆式閘極電晶體元件	★ 窗型球柵陣列構裝翹曲及熱應力分析
★ 冷軋延對ZK60擠製材的拉伸與疲勞性質之影響	★ 熱引伸輔助超塑成形製作機翼整流罩之設計及分析
★ 超塑性鋁合金5083用於機翼前緣整流罩之研究	★ 輕合金輪圈疲勞測試與分析
★ 滾針軸承保持架之有限元分析	★ 鎂合金之晶粒細化與超塑性研究
★ 平板式固態氧化物燃料電池穩態熱應力分析	★ 固態氧化物燃料電池連接板電漿鍍膜特性研究
★ 7XXX系鋁合金添加Sc之顯微組織與機械性質研究	★ 高延性鎂合金之特性及成形性研究

檔案

[Endnote RIS 格式]

[Bibtex 格式]

[相關文章]

[文章引用]

[完整記錄]

[館藏目錄]

[檢視]

[下載]

本電子論文使用權限為同意立即開放。
已達開放權限電子全文僅授權使用者為學術研究之目的，進行個人非營利性質之檢索、閱讀、列印。
請遵守中華民國著作權法之相關規定，切勿任意重製、散佈、改作、轉貼、播送，以免觸法。

摘要(中)

本研究使用電漿和網版印刷方法鍍膜進行材料表面改質。電漿鍍膜法採用過濾式陰極電弧法(FCVA)和高功率脈衝磁控濺鍍法(HIPIMS) 以鈦金屬為陰極、C2H2為反應氣體，在SKH51和WC基材表面被覆含鈦類鑽碳膜(Ti-C:H)，進行基材表面降低摩擦係數和磨耗性之表面改質。
FCVA製程以基材偏壓和靶電流的變化為實驗參數，而HIPIMS以基材偏壓和基材至靶距離為實驗參數。鍍膜之化學成份、外觀形貌、微結構、機械性質和磨耗性質等分別使用輝光放電分光儀、掃描式電子顯微鏡、拉曼光譜儀、X光繞射儀、 X光電子光譜儀、奈米壓痕儀、磨耗機和刮痕機等量測設備進行分析，量測結果顯示Ti-C:H膜表面光平，平均摩擦係數低於0.1、磨耗率為10-17 m3/Nm及附著力大於5 kg，鍍膜對基材表面摩擦潤滑性有明顯改善。
另一個研究主題係使用網版印刷法被覆LSCF、LSM塗層在固態燃料電池之Crofer22 APU連接板上，在800 ℃之氧化氣氛處理200小時，結果顯示塗層能抑制Cr元素從Crofer22 APU連接板擴散出，塗層之ASR (area-specific resistance ；ASR)值以LSCF較LSM為低。

摘要(英)

This study was to modify surface of material by Plasma and screen-printing coating. One of the study issue was that Ti-containing amorphous hydrogenated carbon (Ti-C:H) thin films were deposited on SKH51 and WC substrates by filtered cathodic vacuum arcing (FCVA) and high power pulse magnetron sputtering (HIPIMS) in order to reduce friction coefficient and wear rate. The Ti-C:H thin films deposition used the mixture of Ar and C2H2 gases atmosphere with the titanium metal as cathodic materials. Furthermore, the effects of substrate bias, target current and substrate-to-target distance on film properties have been studied from FCVA and HIPIMS coating system. The film properties including composition, morphology, microstructure, mechanical and tribological characterizations were investigated by glow discharge spectroscopy (GDS), scanning electron microscopy (SEM), X-ray diffraction (XRD), Raman spectroscopy, X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), Nanoindenter and pin-on-disk tribometer, respectively. As a result, the surface of films was smooth, mean coefficient of friction was less than 0.1, wear rate was 10-17 m3/Nm, and critical load was more than 5 kg.
Moreover, the screen-printing method also was investigated in the study. The LSCF and LSM films were applied on a Crofer22 APU interconnect for solid oxide fuel cells (SOFC) by screen-printing method. It was then tested in a simulated oxidizing environment, 800 ◦C for 200 h. The results showed that the LSCF film can change the oxidation behavior of Crofer22 APU. Moreover, long-term electrical resistance measurement also indicated that area-specific resistance (ASR) of the alloy with LSCF coating film is significantly lower than that of the LSM coating.

關鍵字(中)

★ 高功率脈衝磁控濺鍍
★ 類鑽碳膜
★ 網版印刷
★ 連接板
★ 過濾式陰極真空電弧

關鍵字(英)

★ FCVA
★ HIPIMS
★ DLC
★ Screen printing
★ Interconnect

論文目次

中文摘要 i
英文摘要 ii
誌謝 iii
目錄 iv
圖目錄 viii
表目錄 xii
第一章緒論 1
1.1 電漿被覆含鈦類鑽碳膜 1
1.2 網版印刷陶瓷膜在SOFC連接板 3
1.3 論文大綱 6
第二章理論基礎 7
2.1電漿生成 7
2.2含氫類鑽碳膜之介紹 8
2.3 類鑽碳膜(DLC)成長理論 12
2.4 類鑽碳膜(DLC) 成長技術 15
2.5鍍膜的殘留應力 19
2.6改善類鑽碳鍍層附著力的方法 19
2.7添加金屬於鍍膜內 20
2.8適當熱處理 20
2.9 離子轟擊效應 20
2.10類鑽碳膜之熱穩定性 21
2.11 碳氫氣體選用 22
2.12 偏壓 23
2.13 碳化物 24
第三章過濾式陰極真空電弧被覆含鈦類鑽碳膜 25
3.1過濾式陰極真空電弧製程 25
3.2 陰極點形成微坑機制 28
3.3 電荷狀態 28
3.4 離化反應 28
3.5 實驗設備 29
3.6電漿穿透率 33
3.7實驗方法步驟 35
3.7.1 試片準備與清潔 36
3.7.2 鍍膜步驟 36
3.7.3 量測分析 40
3.8結果與討論 41
3.8.1膜組織成份分析 41
3.8.2 鈦含量與沈積率 42
3.8.3 XPS (X-ray photoelectron spectroscopy)分析 44
3.8.4 X光繞射分析(XRD) 48
3.8.5奈米硬度壓痕測試(Nanoindenter) 49
3.8.6 磨潤測試 51
3.8.7 磨耗率 53
3.8.8 附著力測試 55
3.9 小結 56
第四章高功率脈衝磁控濺鍍被覆含鈦類鑽碳膜 57
4.1 高功率脈衝磁控濺鍍 57
4.2實驗設備與方法 58
4.2.1 實驗設備 58
4.2.2 試片準備與清潔 59
4.2.3 實驗製程 59
4.2.4 分析方法 60
4.3 結果與討論 65
4.3.1 成份分析 65
4.3.2 沈積速率 67
4.3.3 X光繞射分析 67
4.3.4 拉曼光譜分析 68
4.3.5 奈米硬度測試 71
4.3.6 附著力測試 73
4.3.7 磨潤性測試 76
4.4 小結 78
第五章固態氧化物燃料電池連接板網印陶瓷膜改質 79
5.1 基本理論 79
5.1.1 固態氧化物燃料電池之基本原理 79
5.1.2 固態氧化物燃料電池構造及特性 80
5.1.3 陽極 81
5.1.4 電解質 81
5.1.5 陰極 82
5.1.6 連接板 82
5.1.7 金屬連接板表面處理 83
5.2 實驗方法與設備 86
5.2.1 網印LSCF和LSM漿料製作 86
5.2.2 網印LSCF和LSM膜試片製作 86
5.2.3 量測設備 87
5.2.4 高溫電阻量測Area specific resistance(ASR) 87
5.3 結果與討論 91
5.3.1 氧化表面x光繞射分析 91
5.3.2 LSCF和LSM塗層表面組織分析 91
5.3.3 LSCF/Crofer22 APU界面元素擴散分析 92
5.3.4 高溫氧化測試 93
5.4 小結 99
第六章結論 101
參考文獻 103
表目錄
表2-1：陰極電極不同靶材射出之離子能 23
表3-1: FCVA製程參數 38
表5-1: 塗層被覆方法 85
表5-2 : Crofer22 APU合金化學組成 (wt. %). 90
圖目錄
圖2-1: 電漿示意圖；圖(a)電壓對電流關係，圖(b)直流電漿 8
圖2-2：碳結構；(a)石墨晶體，(b)鑽石晶體 11
圖2-3：鑽石、石墨與carbon 分別具備SP3、SP2 與 SP1 之結構 12
圖2-4：非晶質含氫類鑽碳膜；(a)結構圖，(b)三元相圖 12
圖2-5：脫氫反應及壓縮將sp2轉換成sp3 15
圖2-6：離子沉積 16
圖2-7：離子濺射 17
圖2-8：脈衝分子雷射 17
圖2-9：PECVD 17
圖2-10：離子束輔助沉積 18
圖2-11：陰極電弧電漿系統 18
圖2-12：封閉場非平衡磁控濺射 18
圖2-13：不同碳氫氣體之沉積速率與離化電壓之關係圖 23
圖3-1: FCVA之離子能分佈 26
圖3-2: 陰極表面形成電漿射出正離子及熔融微滴示意圖 26
圖3-3: 陰極靶電漿流示意圖 27
圖3-4：真空陰極電弧放電離子鍍系統所產生之微粒(右圖為斷面圖) 27
圖3-5 : 過濾式陰極真空電弧法設備；(a)電源線路圖 29
圖3-5 : 過濾式陰極真空電弧法設備；(b)真空腔體圖，(c)磁濾管圖 30
圖3-6 : 過濾式陰極電弧零組件示意圖 31
圖3-7: FCVA管道內置濾片示意圖 32
圖3-8: FCVA管道電漿穿透率量測示意圖 34
圖3-9: FCVA被覆Ti-C:H膜實驗流程圖 35
圖3-10: 含鈦類鑽碳膜結構示意圖 37
圖3-11: 試片輝光與轟擊 37
圖3-12: 直流脈衝偏壓波型(350KHz, 60% Duty) 38
圖3-13: FCVA被覆含鈦類鑽碳膜試件；(a)水龍頭陶瓷磨片、碳化鎢和SKH51 ，(b)PCB微銑刀(直徑2mm) 39
圖3-14: 鈦靶陰極電弧放電後表面和電漿場景 39
圖3-15: 直徑2mm PCB微銑刀被覆類鑽碳膜；(a)陰極電弧被覆，(b) 陰極電弧被覆放大圖，(c) FCVA被覆視圖，(d) FCVA被覆視圖 40
圖3-16: 含鈦類鑽碳膜縱向成份分佈圖 41
圖3-17 : 偏壓與鈦含量、沈積率之關係曲線 43
圖3-18 : 靶電流與鈦含量、沈積率之關係曲線 43
圖3-19 : 含鈦類鑽碳膜鍵結能譜圖 45
圖3-20 : C1s能譜之sp3、sp2含量分析 46
圖3-21 : 偏壓與sp3/sp2 關係曲線圖 46
圖3-22 : Ti2p能譜分析 47
圖3-23 : 靶電流與sp3/sp2 關係曲線 47
圖3-24 : Ti-C:H膜X光繞射譜(入射角3°) 48
圖3-25 : 偏壓參數之硬度與深度關係曲線圖 50
圖3-26 : 硬度、楊氏模數與偏壓參數之關係曲線 50
圖3-27 : 含鈦類鑽碳膜奈米硬度與靶電流關係曲線 51
圖3-28 : (a)磨耗試驗機 (b)磨痕軌跡 52
圖3-29 : 未被覆類鑽碳膜試片磨耗測試之摩擦係數與圈數關係 52
圖3-30 : 偏壓與摩擦係數之關係曲線 53
圖3-31 : 磨痕斷面曲線量測設備 54
圖3-32 : 偏壓與磨耗率關係曲線 54
圖3-33 : 附著力刮痕測試之刮痕 55
圖3-34 : 偏壓與Lcr2刮痕臨界作用力之關係曲線 56
圖4-1: 高功率脈衝磁控濺鍍Ti-C:H膜實驗流程圖 61
圖4-2: 高功率脈衝磁控濺鍍系統設備圖 62
圖4-3: 高功率脈衝磁控濺鍍系統配線圖 62
圖4-4: 磁場Bz強度與靶面法向量距離之變化曲線 63
圖4-5: 靶和基材之脈衝電壓、電流曲線 63
圖4-6: HIPIMS被覆試件:(a) Ti-C:H膜試片(b)軸承環零件(c)捨棄式刀片鍍TIN膜用於無鉛銅切削 64
圖4-7: 原子與深度之關係曲線圖 65
圖4-8a: Ti含量、基材距靶距離和偏壓關係曲線 66
圖4-8b: Ti含量、基材距靶距離和偏壓關係曲線 66
圖4-9: Ti-C:H在SUS304基材沈積成長速率 67
圖4-10: Ti-C:H膜X光繞射譜 68
圖4-11: Ti-C:H膜之拉曼光譜 69
圖4-12: 偏壓與I(D)/ I(G)比值之關係曲線 70
圖4-13: 偏壓與G band position之關係曲線 70
圖4-14: 偏壓與硬度之關係曲線圖 72
圖4-15: 偏壓與楊氏模數之關係曲線圖 72
圖4-16: 含鈦類鑽碳膜被覆在WC之刮痕破壞痕跡 74
圖4-17: 偏壓與臨界負載之關係曲線 74
圖4-18: 偏壓與臨界負載之關係曲線 75
圖4-19: 不銹鋼基材刮痕測試 75
圖4-20: 基材偏壓與摩擦係數關係 76
圖4-21: 磨耗測試之磨痕軌跡 77
圖4-22: 磨耗測試之磨凹曲線 77
圖5-1 : 固態氧化物燃料電池工作原理圖 79
圖5-2 : 單電池組之固態氧化物燃料電池結構圖 80
圖5-3 : SOFC電池堆示意圖(核研所燃材組1 kW SOFC) 81
圖5-4 : SOFC金屬連接板毒化陰極模型 84
圖5-5 : 網印法示意圖 85
圖5-6 : 塗覆LSM和LSCF膜實驗流程 89
圖5-7 : LSM和LSCF塗覆試片燒結流程 90
圖5-8 : 金屬連接板氧化皮膜的ASR量測方式示意圖 90
圖5-9 : LSCF塗佈在Crofer22 APU基材之X光繞射比較；圖(a) 1050℃ 燒結50分鐘，圖(b) 1050℃燒結50分鐘，再置於800℃之大氣氣氛200小時 93
圖5-10 : LSM塗覆於Crofer22 APU基材，經高溫燒結與高溫燒結後再經氧化處理之X光繞射圖比較 94
圖5-11 : (a) LSCF塗層，(b) LSM塗層燒結後表面形貌。LSCF塗層 1050℃、50分鐘，LSM塗層1100℃燒結90分鐘 94
圖5-12 : (a) LSM塗層，(b) LSCF塗層，經燒結後再經800℃高、200 小時氧化處理之像圖和成份分析 95
圖5-13 : LSCF/Crofer22 APU燒結後，再經800℃空氣氧化200小時後； (a)高溫氧化之截面圖與(b) EPMA定量 96
圖5-13 : LSCF/Crofer22 APU燒結後，再經800℃空氣氧化200小時後； (c) EPMA元素濃度分佈圖 97
圖5-14 : Crofer22 APU/LSCF於800°C高溫氧化300小時之(a) BEI 影像(b)EPMA元素線掃描分析結果 98
圖5-15 : LSM與LSCF塗上Crofer22 APU的ASR值與時間的關係圖 99

參考文獻

[1] K. Bewilogua, C.V. Cooper, C. Specht, J. Schroder, R. Wittorf,M. Grischke, Surf. Coating Technol. 127 (2000) 224.
[2] D.P. Monaghan, D.G. Teer, P.A. Logan, I. Efeoglu, R.D. Arnell,Surf. Coating Technol. 60 (1993) 525.
[3] K. Oguri, T. Arai, Surf. Coating Technol. 47 (1991) 710.
[4] T. Hioki, Y. Itoh, A. Itoh, S. Hibi, J. Kawamoto, Surf. Coating Technol. 46 (1991) 233.
[5] J.R. Conrad, T. Castagna, Bull. Am. Phys. Soc. 31 (1986) 1479.
[6] J.R. Conrad, J. Appl. Phys. 62 (1987) 777.
[7] P.J. Kelly, R.D. Arnell, Vacuum 56 (2000) 159-172
[8] S. Schiller, K. Goedicke, J. Reschke, V. Kirchol, S. Schneider, F. Milde, Surf Coat Technol 1993;61:331-7
[9] V. Kouznetsov, K. Macak, J.M. Schneider, U. Helmersson, I. Petrov, Surf.Coat. Technol. 122 (1999) 290.
[10] J. Alami, P.O. Persson, D. Music, J. T. Gudmundsson, J. Bohlmark and U. Helmersson , J. Vac. Sci. Technol. A23 (2005)278
[11] S. M. Rossnagel, J. Vac. Sci. Technol. B 16 (1998 )2585
[12] A. P Ehiasarian, P. Hovsepian, L .Hultman and Helmersson, Thin Solid Films 457(2004) 270
[13] Subhash C Singhal and Kevin Kendall, High Temperature Solid Oxide Fuel Cells: Fundamental, Design and Application, (2003).
[14] S.P. Jiang, Solid State Ionics 146 (2002) 1-22.
[15] T. Tsai, S.A. Barnett, Solid State Ionics 93 (1997) 207–217.
[16] J. W. Fergus, Mater. Sci. Eng. A397 (2005) 271.
[17] S.H. Lee, H.J. Ryoo, J.J. Lee, “(Ti1-xAlxN) coatings by plasma-enhanced chemical vapor deposition”, J. Vac. Sci. Technol. A 12 (1994) 1602
[18] W. D. Kingery, H. K. Bowen, and D. R. Uhlmann, Introduction toCeramics, Chapter 2, John Wiley & Sons, Canada, 1991
[19] 余樹貞，晶體之結構與性質，第十二章，渤海堂文化公司，台北台灣，1993 張瑞發，化工資訊， 4 (1993) 68。
[20] J. C. Angus, and C. C. Hayman, Science 241, 913 (1998)
[21] J.Robertson, Surf. Coat. Technol. 50, 185 (1992)
[22] Franks, J., Enke, K & Richardt, A., “ Diamond-likecarbon-properties and application”, Metals and Materials, 1990,pp.695-700.
[23] Hirvonen, J-P., Koskinen, J.,Likonen, J., Koponen, I. & Kattelus, H.,“Modification of interfacial characteristics between diamond-likecarbon films and substrates using ion bombardment ”, 8th Int. Confon Ion Beam Modification of Materials Heidelberg, Sept, 1992, p.11.
[24] W. Jacob, W. Moller, Applied Physics Letter, 63 (1993) 1771.
[25] R. Berman and M. Martinez, Diamond Reseach, 7, (1979) 7.
[26] C.D. Martino, F. Demichelis and A. Tagliaferro, DiamondRelat. Mater., 4 (1995) 1210
[27] J.C. Angus and C.C. Hayman, Science, 241 (199) 913
[28] I. Garnev and V. Orlinov, Diamond Relat. Mater., 4 (1995)1041
[29] J.J. Cuomo, D.L. Pappas, J. Bruley, J.P. Doyle and K.L.Saenger, J. Appl. Phys., 70 (1991) 1706
[30] P.C. Kelires, C.H. Lee and W.R. Lambrecht, J. Non-Cryst.Solids, 164/166 (1993) 1131
[31] C.Y. Hsu, L.Y. Chen and F.C.N. Hong, Diamond Relat. Mater.,in press
[32] J. Robertson, Diamond Relat. Mater., 5 (1996) 519
[33] J. Robertson, Diamond Relat. Mater., 3 (1994) 361
[34] J. Robertson, J. Non-Cryst. Solids, 164/166 (1993) 1115
[35] 張銀祐，陰極電弧活化沈積含金屬類鑽碳膜之製程與特性研究，國立中興大學材料工程學研究所，博士學位論文，民國93年1月。
[36] D.R. McKenzie,Y. Yin,N.A. Marks,et al.,” Hydrogen-free amorphous carbon preparation and properties”,Diamond and Related Materials，3(1994)353.
[37] H. Dimigen, C. P. Klages,” Microstructure and wear behavior of metal-containing diamond-like coatings”, Surface and Coatings Technology, 49(1991)543
[38] H. Oettel, R. Wiedemann, ”Residual stresses in PVD hard coatings”, Surface and Coatings Technology, 76/77(1995)265.
[39] Y.L. Su, W.H. Kao, ”Effect of thickness and carbon content on tribological behaviour and mechanical properties of Ti-C:H coatings”, Wear, 236(1999)221-234
[40] K. Bewilogua, H. Dimigen, ”Preparation of W-C:H coatings by reactive magnetron sputtering”, Surface and Coatings Technology, 61(1993)144.
[41]L. Feng, J. Tang, et al., ”Tribological properties of magnetron-sputtered TiC coatings”, Materials Science and Engineering,A257(1998)240-249.
[42] H. Holleck, M. Lahres, P. Woll,” Multilayer coatings. Influence of fabrication parameters on constitution and properties”, Surface and Coatings Technology, 41(1990)179.
[43] C. Donne, J. Fontaine, T. L. Mogne, et al., ”Diamond-Like carbon-based functionally gradient coatings for space tribology” , Surface and Coatings Technology., 120-121(1998)548-554.
[44] Y. L. Su , W. H. Kao , ”Tribological and application of Ti-C:H and Cr-C:H coated tungsten carbide substrate”, Surface and Coatings Technology, 37(2001)293-303
[45] J. J. Cuomo, D. L. Pappas, J.Bruley, J. P. Doyle and K.L.Saenger, Vapor Deposition Processes for Amorphous Carbon Films with sp3 Fractions Approaching Diamond”, J. Appl. Phys., 70(1991) 1706.
[46] D.P. Monaghan, D. G. Teer, P. A. Logan,et al., ” Deposition of wear resistant coatings based on diamond like carbon by unbalanced magnetron sputtering ”, Surface and Coatings Technology, 60(1993)525.
[47] Y.L. Su,W. H. Kao,” Optimum Me-DLC coatings and hard coatings for tribological performance”, Journal of Materials Engineering and Performance, 9(2000)38-50
[48] C. Donnet,” Environment and tribochemistry - two key factors for the tribology of diamond-like carbon coatings”, Surface and Coatings Technology, (1996)229.
[49] V. Fox, A. Jones, N. M. Renevier, D. G. Teer, ”Hard lubricating coatings for cutting and forming tools and mechanical components”, Surface and Coatings Technology, 125(2000)347-353.
[50] H. Dimigen, C. P. Klages, ”Microstructure and wear behavior of metal-containing diamond-like coatings” , Surface and Coatings Technology, 49(1991)543
[51] U. Wiklund, M. Larsson, ”Low friction PVD Titanium-carbon coatings”, Wear, 241(2000)234-238
[52] V. Kulikovsky, A. Tarasenko, F. Fendrych, ”The mechanical tribological and optical properties of Ti-C:H coatings,prepared by DC magnetron sputtering”, Diamond and Related Materials, 7(1998)774-778
[53] V.V. Lyubimov, A.A. Voevodin, S. E. Spassky, et al., ” Stress analysis and failure possibility assessment of multilayer physically vapour deposited coatings”,Thin Solid Films, 207(1992)117
[54] B. Bhushan, B. K. Gupta, Handbook of Tribology, 2nd edition,Mcgraw-Hill, New York,1997
[55] D.E. Wolfe, J. Singh, ”Titanium carbide coatings deposited by reactive ion beam-assisted,electron beam-physical vapor deposition”, Surface and Coatings Technology, 124(2000)142-153
[56] P. Couderc, Y. Catherine, ”Structure and physical properties of plasma-grown amorphous hydrogenated carbon films ”, Thin Solid Films,146(1987)93
[57] N.E. Lobiodo, R. R. Aharronov, R. P. Fontana,” An investigation of the properties of Ti-C:H films”,Surface and Coatings Technology, 4-95(1997)652-657.
[58] E. Bertran, C. Corbella, A. Pinyol, M. Vives, J.L. Andu´ jar, Diamond Relat. Mater. 12 (2003) 1008.
[59] E. Bertran, C. Corbella, A. Pinyol, M. Vives, J. L. Andu´ jar, Diamond Relat. Mater. 12 (2003) 1008.
[60] R. L. Boxman, D. M. Sanders, P. J. Martin, J. M. Lafferty, Handbook of Vacuum Arc Science and Technology, Noyes, New Jersey, 1995.
[61] J. Benedikt, R.V. Woen, S. L. M. van Mensfoort , V. Perina, J. Hong, M.C.M. van de Sanden, Diamond and Related Materials 12 (2003) 90–97
[62] T. Hioki, Y. Itoh, A. Itoh, S. Hibi, J. Kawamoto, Surf. Coating Technol. 46 (1991) 233
[63] J. Robertson, Diamond Related Mater. 2 (1993) 984–989
[64] J.R. Conrad, T. Castagna, Bull. Am. Phys. Soc. 31 (1986) 1479
[65] J. Benedikt, R.V., Woen, S.L.M. van Mensfoort, V. Perina, J. Honga, M.C.M. van de Sanden, Diamond and Related Materials 12 (2003) 90–97
[66] B.K. Tay, Y.H. Cheng, X.Z. Ding, S.P. Lau, X. Shi, G. F. You, D. Sheeja, Diamond and Related Materials ,10(2001)1082-1087
[67] J. C. Angus, C. C. Hayman, Science 241 (1988) 913
[68] V. Kouznetsov, K. Macak, J. M. Schneider, U. Helmersson, I. Petrov, Surf. Coat. Technol. 122 (1999) 290.
[69] A. P. Ehiasarian, R. New, W. D. Münz, L. Hultman, U. Helmersson,V. Kouznetsov, Vacuum, 65 (2002) 147-154.
[70] W. D. Sproul, D. J. Chcristie, D.C. Carter, F. Thomasel, T. Linz,Surface Engineering, V 20 (2004) 3.
[71] Alami J, Persson P O Å, Music D, Gudmundsson J T,Bohlmark J and Helmersson U 2005 J. Vac. Sci. Technol. A23 278
[72] S. M. Rossnagel J. Vac. Sci. Technol. B 16 (1998)2585
[73] A. P. Ehiasarian, P. Eh. Hovsepian, L. Hultman and Helmersson, Thin Solid Films 457(2004) 270
[74] J. Robertson, Diamond-like amorphous carbon, Mater. Sci. Eng. R37 (2002) 129–281.
[75] J.T. Gudmundsson,, J. Alami and U. Helmersson, Surface and Coatings Technology 161 (2002)249–256
[76] A. C. Ferrari and J. Robertson, PHYSICAL REVIEW B, 15 MAY 2000-II
[77] W.Z. Zhu and S.C. Deevi, Mater. Res. Bull., 38(2003) 957-972.
[78] Wei Qu, J. L. Douglas and G. Ivey, J. Power Sources, 138(2004) 162-173.
[79] J. W. Fergus, Mater. Sci. Eng. A, 397(2005) 271-283.
[80] W. Z. Zhu and S. C. Deevi, Mater. Sci. and Eng. A, 362(2003) 228-239.
[81] N. Q. Minh, Solid State Ionics, 174(2004) 271–277.
[82] S. C. Singhal, Mater. Res. Bull., 16-21, March (2000).
[83] K. Z. Fung, H. D. Baek and A. V. Virkar, Solid State Ionics, 52(1992) 199-211.
[84] N.Q. Minh, J. Am. Ceram. Soc., 76(1993) 563-588.
[85] S. P. Simmer, J. F. Bonnett, N. L. Canfield, K. D. Meinhardt, J. P. Shelton, V. L. Sprenkle, and J. W. Stevenson, J. Power Sources, 113,(2003) 1.
[86] O. Yamamoto, Y. Takeda, R. Kanno, and M. Noda, Solid State Ionics,22, (19887) 241.
[87] B. C. H. Steele, Solid State Ionics, 86-88 (1996)1223.
[88] I. Yasuda and T. Hikita, J. Electrochem. Soc., 140 (1993) 1699-1704.
[89] G. Pudmich, B.A. Boukamp, M.G. Cuenza, W. Jungen, W. Zipprich and F. Tietz, Solid State Ionics, 135(2000) 433-438.
[90] F. Tietz, H. P. Buchkremer and D. Stover, Solid State Ionic, 152-153 (2002) 373 -381.
[91] T. Brylewski, M. Nanko, T. Maruyama and K. Przybylski, Solid State Ionics, 143 (2001) 131-150.
[92] C. Johnson, R. Gemmen and N. Orlovskaya, composite: Part B 35, (2004)167-172.
[93] H. W. Nie, T. L. Wen and H. Y. Tu, Mater. Res. Bull., 38 (2003)1531-1536.
[94] M. Burriel, G. Garcia, J. Santiso, A.N. Hansson, S. Linderoth and A Figueras, Thin Solid Films, 473 (2005)98-103.
[95] W. Qu, J. Li and D. G. Ivey, J. Power Sources 138(2004) pp.162-177.
[96] J. H. Zhu, Y. Zhang, A. Basu, Z.G. Lu, M. Paranthaman, D.F. Lee and E.A. Payzant, Surf. Coat. Technol., 177-178(2004) 65-72.
[97] Z. Yang, G. G. Xia, X. H. Li and J. W. Stevenson, Int J Hydrogen Energy; 32(2007) 3648-3654.
[98] P. E. Gannon, C.T. Tripp, A.K. Knospe, C.V. Ramana, M. Deibert, R.J. Smith, V.I. Gorokhovsky, V. Shutthanandan and D. Gelles, Surf. Coat. Technol., 188-189(2004) 55-61.
[99] Hilpert et al. Electronchem Soc. 143(1996)3642
[100] P. Jian, L. Jian, H. Bing and G. Xie, J. Power Sources, 158, 354-360, (2006).
[101] 呂駿嶸，固態氧化物燃料電池金屬雙極板之高溫氧化及電性研究，國立台灣科技大學機械研究所碩士學位論文，民國94年7月。

指導教授

李雄(Shyong Lee)

審核日期

2010-7-20

推文