The effect of polymer modification on microwave digestion efficiency, thermal stability and plasma etching resistance for the photoresist

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題名:	The effect of polymer modification on microwave digestion efficiency, thermal stability and plasma etching resistance for the photoresist
作者:	Ko,FH;Lu,JK;Chu,TC;Chou,CT;Hsiao,LT;Lin,HC
貢獻者:	化學工程與材料工程研究所
關鍵詞:	BIOLOGICAL SAMPLES;MASS SPECTROMETRY;TRACE-METALS;IMPURITIES;CONTAMINATION;SYSTEM;IMPACT;IRON
日期:	2000
上傳時間:	2010-07-06 16:33:30 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	The UV/VIS spectrometric and gravimetric methods were successfully implemented to evaluate the open-focused microwave digestion efficiency for a photoresist sample after modification with poly(4-hydroxystyrene) polymer. The polymer modification can slight
關聯:	JOURNAL OF ANALYTICAL ATOMIC SPECTROMETRY
顯示於類別:	[化學工程與材料工程研究所] 期刊論文

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