Epitaxial AlN thin film surface acoustic wave devices prepared on GaN/sapphire using low-temperature helicon sputtering system

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題名:	Epitaxial AlN thin film surface acoustic wave devices prepared on GaN/sapphire using low-temperature helicon sputtering system
作者:	Kao,H. L.;Chen,W. C.;Chien,Wei-Cheng;Lin,Hui-Feng;Chen,Tzu Chieh;Lin,Chung Yi;Lin,Y. T.;Chyi,J. -I.;Hsu,C. -H.
貢獻者:	電機工程研究所
關鍵詞:	MOLECULAR-BEAM EPITAXY;ELECTROMECHANICAL COUPLING COEFFICIENT;ALUMINUM NITRIDE;SAW DEVICES;ELECTRICAL CHARACTERIZATION;ALN/GAN HETEROSTRUCTURES;HIGH-VELOCITY;GAN;FREQUENCY;SAPPHIRE
日期:	2008
上傳時間:	2010-07-06 18:12:39 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	High-quality epitaxial AlN films have been deposited on GaN/sapphire using helicon sputtering at a temperature of 300 degrees C. The surface acoustic wave (SAW) characteristics, in terms of insertion loss, stopband rejection, and electromechanical couplin
關聯:	JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
顯示於類別:	[電機工程研究所] 期刊論文

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