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    題名: Study of drain alloy for antimony substrate vertical high voltage power metal oxide semiconductor field effect transistors
    作者: Liao,Chien-Nan;Chien,Feng-Tso;Chen,Chii-Wen;Tsai,Yao-Tsung
    貢獻者: 電機工程研究所
    關鍵詞: CONCENTRATION LIMITATION;SILICON-CRYSTALS
    日期: 2008
    上傳時間: 2010-07-06 18:14:13 (UTC+8)
    出版者: 中央大學
    摘要: An antimony (Sb)-doped substrate is used to fabricate high voltage power metal oxide semiconductor field effect transistor (MOSFET) to prevent out-doping phenomenon. Since the contact resistance of Sb-doped substrate is higher than that of the phosphor-us
    關聯: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
    顯示於類別:[電機工程研究所] 期刊論文

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