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    題名: Geometry effect on SiGe heterojunction bipolar transistor unit cell for 1 W high-efficiency RF power amplifier applications
    作者: Chiou,Hwann-Kaeo;Yeh,Ping-Chun;Lee,Chwan-Ying;Yeh,John;Tang,Denny;Chern,John
    貢獻者: 電機工程研究所
    關鍵詞: THERMAL DESIGN;LOW-VOLTAGE;PERFORMANCE;HBTS;COMMUNICATION;TECHNOLOGY;SIGEBICMOS;BREAKDOWN;BICMOS
    日期: 2007
    上傳時間: 2010-07-06 18:17:18 (UTC+8)
    出版者: 中央大學
    摘要: The effect of geometry on the RF power performance of silicon-germanium heterojunction bipolar transistor (SiGe HBT) unit cells is investigated using various emitter finger spacing (S). Two unit cells, namely, HBT-1 and HBT-2 with the same emitter area of
    關聯: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS
    顯示於類別:[電機工程研究所] 期刊論文

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