English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文筆數/總筆數 : 80990/80990 (100%)
造訪人次 : 41637182      線上人數 : 1156
RC Version 7.0 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
搜尋範圍 查詢小技巧:
  • 您可在西文檢索詞彙前後加上"雙引號",以獲取較精準的檢索結果
  • 若欲以作者姓名搜尋,建議至進階搜尋限定作者欄位,可獲得較完整資料
  • 進階搜尋


    請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.lib.ncu.edu.tw/handle/987654321/34841


    題名: Electrodeposition of copper at well-defined Pt(111) and Rh(111) electrodes in sulfuric acid solutions: Studying with in situ scanning tunneling microscopy
    作者: Wu,ZL;Zang,ZH;Yau,SL
    貢獻者: 化學研究所
    關鍵詞: IN-SITU;UNDERPOTENTIAL DEPOSITION;SUBMONOLAYER AMOUNTS;INDUCED ADSORPTION;AU(111);SULFATE;STM;PLATINUM(111);COADSORPTION;ANIONS
    日期: 2000
    上傳時間: 2010-07-07 12:14:04 (UTC+8)
    出版者: 中央大學
    摘要: We report in situ scanning tunneling microscopy (STM) results of underpotential deposition (UPD) of copper at well-ordered Pt(lll) and Rh(lll) electrodes in sulfuric acid solutions. Cyclic voltammograms of Pt(lll) at 1 mV/s in 0.05 M H2SO4 and 5 mM CuSO4
    關聯: LANGMUIR
    顯示於類別:[化學研究所] 期刊論文

    文件中的檔案:

    檔案 描述 大小格式瀏覽次數
    index.html0KbHTML423檢視/開啟


    在NCUIR中所有的資料項目都受到原著作權保護.

    社群 sharing

    ::: Copyright National Central University. | 國立中央大學圖書館版權所有 | 收藏本站 | 設為首頁 | 最佳瀏覽畫面: 1024*768 | 建站日期:8-24-2009 :::
    DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 隱私權政策聲明