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    題名: Analysis of a two-dimensional photonic bandgap structure fabricated by an interferometric lithographic system
    作者: Chien,Cheng-Wei;Lee,Yun-Chih;Lee,Po-Shen;Chang,Jenq-Yang;Chen,Jyh-Chen
    貢獻者: 光電科學與工程學系
    關鍵詞: INTERFERENCE LITHOGRAPHY;CRYSTALS;GAP;PHOTORESIST;WAVELENGTHS;SCATTERERS;SYMMETRIES;EXPOSURES;GRATINGS;DEFECTS
    日期: 2007
    上傳時間: 2010-07-07 14:07:36 (UTC+8)
    出版者: 中央大學
    摘要: An interferometric lithographic technique and double exposure method are applied to theoretically and experimentally investigate several kinds of 2D periodic structures. The shape, lattice symmetries, and lattice constants of the 2D structures, for differ
    關聯: APPLIED OPTICS
    顯示於類別:[光電科學與工程學系] 期刊論文

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