Characterization of AlF3 thin films at 193 nm by thermal evaporation

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题名:	Characterization of AlF3 thin films at 193 nm by thermal evaporation
作者:	Lee,CC;Liu,MC;Kaneko,M;Nakahira,K;Takano,Y
贡献者:	光電科學與工程學系
关键词:	MICROSTRUCTURAL PROPERTIES;OPTICAL-CONSTANTS;MGF2;ULTRAVIOLET;COATINGS;LITHOGRAPHY;DEPOSITION;FLUORIDE;BAF2;CAF2
日期:	2005
上传时间:	2010-07-07 14:11:18 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	Aluminum fluoride (AlF3) was deposited by a resistive heating boat. To obtain a low optical loss and high laser-induced damage threshold (LIDT) at 193 nm, the films were investigated under different substrate temperatures, deposition rates, and annealing
關聯:	APPLIED OPTICS
显示于类别:	[光電科學與工程學系] 期刊論文

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