Fabrication of high-aspect-ratio sub-diffraction-limit microstructures by two-photon-absorption photopolymerization

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题名:	Fabrication of high-aspect-ratio sub-diffraction-limit microstructures by two-photon-absorption photopolymerization
作者:	Pan,EY;Pu,NW;Tong,YP;Yau,HF
贡献者:	光電科學與工程學系
关键词:	OPTICAL-DATA STORAGE;MICROFABRICATION;POLYMERIZATION;MICROMACHINES;EXCITATION;DRIVEN;LIGHT
日期:	2003
上传时间:	2010-07-07 14:14:11 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	Micro-cell structures with side-walls as thin as 0.70 mum and aspect ratios as high as 6.7 are fabricated by single-layer writing through two-photon-absorption (TPA) photopolymerization. The use of a moderate-numerical-aperture (N.A.) objective lens to ob
關聯:	APPLIED PHYSICS B-LASERS AND OPTICS
显示于类别:	[光電科學與工程學系] 期刊論文

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