Determination of the mechanical properties of thin films by digital phase shifting interferometry

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題名:	Determination of the mechanical properties of thin films by digital phase shifting interferometry
作者:	Tien,CL;Lee,CC;Tsai,YL;Sun,WS
貢獻者:	光電科學與工程學系
關鍵詞:	THERMAL-EXPANSION COEFFICIENT;ION-ASSISTED DEPOSITION;STRESS;SILICON
日期:	2001
上傳時間:	2010-07-07 14:30:45 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	A new method for the measurement of internal stress and coefficient of thermal expansion of thin oxide films is presented and investigated experimentally, that combines digital phase shifting interferometry with image-processing technique to improve the a
關聯:	OPTICS COMMUNICATIONS
顯示於類別:	[光電科學與工程學系] 期刊論文

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