The characteristics of some metallic oxides prepared in high vacuum by ion beam sputtering

NCU Institutional Repository > 理學院 > 光電科學與工程學系 > 期刊論文 > Item 987654321/35521

請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.lib.ncu.edu.tw/handle/987654321/35521

題名:	The characteristics of some metallic oxides prepared in high vacuum by ion beam sputtering
作者:	Lee,CC;Hsu,JC;Wong,DH
貢獻者:	光電科學與工程學系
關鍵詞:	OPTICAL COATINGS;THIN-FILMS;DEPOSITION
日期:	2001
上傳時間:	2010-07-07 14:34:53 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	The characteristics of ion beam sputtered metallic oxides deposited in high vacuum are analyzed by X-ray diffractometer. atomic force microscopy, spectrophotometer and ellipsometer. The metallic oxide thin films include aluminum oxide, niobium oxide, sili
關聯:	APPLIED SURFACE SCIENCE
顯示於類別:	[光電科學與工程學系] 期刊論文

文件中的檔案:

檔案	描述	大小	格式	瀏覽次數
index.html		0Kb	HTML	458	檢視/開啟

在NCUIR中所有的資料項目都受到原著作權保護.

社群 sharing