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    題名: The measurement of thin film stress using phase shifting interferometry
    作者: Tien,CL;Lee,CC;Jaing,CC
    貢獻者: 光電科學與工程學系
    關鍵詞: ION-ASSISTED DEPOSITION;MECHANICAL-STRESS;SIO2;TEMPERATURE
    日期: 2000
    上傳時間: 2010-07-07 14:36:08 (UTC+8)
    出版者: 中央大學
    摘要: A new technique for determining the stress of thin films is described. This technique combines digital phase shifting interferometry with image-processing software. A circular disc polished on one side is used as the coated substrate during film depositio
    關聯: JOURNAL OF MODERN OPTICS
    顯示於類別:[光電科學與工程學系] 期刊論文

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