次世代TFT-LCD光阻塗佈製程與設備之研發---子計畫一---TFT-LCD光阻與染料塗佈技術研究(II); The Study of Photo-Resistant and Dye Coating Technology in TFT-LCD(II)

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題名:	次世代TFT-LCD光阻塗佈製程與設備之研發---子計畫一---TFT-LCD光阻與染料塗佈技術研究(II);The Study of Photo-Resistant and Dye Coating Technology in TFT-LCD(II)
作者:	周復初
貢獻者:	機械工程學系
關鍵詞:	狹縫式塗佈;噴墨塗佈;液晶顯示器;光電工程;化學工程類
日期:	2006-07-01
上傳時間:	2010-12-06 15:08:51 (UTC+8)
出版者:	行政院國家科學委員會
摘要:	本計畫主要目的是TFT-LCD光阻與染料之新型塗佈技術研究。本實驗將狹縫式塗佈技術應用在光阻與染料之塗佈上，可預期的優點有塗佈速度快和塗佈面積大。然而在塗佈的過程中，塗佈層會有許多的缺陷發生，如空氣滲入（air entrainment）、溪狀（rivulet）、耙形線（rake line）等，本實驗利用此新式的狹縫式塗佈機台找出LCD於狹縫塗佈時之塗佈注入量、塗佈間距（coating gap）、狹縫間距（slot gap）、不同流體對完整覆膜的影響，並配合狹縫頭的設計，進而找出最佳注液模式，使光阻染料減量及塗佈的更加均勻。另外，開發彩色濾光片三原色新型塗佈技術也是本計畫重點。目前噴墨塗佈應用在彩色濾光片的技術皆屬非連續性之塗佈方式，亦即將三原色一次一次的依序噴入微米級矩陣圖形中，此種塗佈技術其最大缺點為噴墨定位困難、噴墨控制性不佳、塗佈速度慢等缺點，也是噴墨技術目前主要瓶頸。本計畫採用連續式噴墨技術，連續將三原色染料持續性的塗佈在基板上，此法不會有噴墨頭高精密定位、精密噴墨控制等問題發生，塗佈速度相對加快。噴墨塗佈中，衛星液滴和噴墨頭阻塞現象是噴墨頭很容易發生的現象，此現象和液滴物性、撞擊能量和液滴速度等因素有關，本計畫將找出產生的相關機制加以克服。研究期間：9408 ~ 9507
關聯:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:	[機械工程學系] 研究計畫

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