English  |  正體中文  |  简体中文  |  Items with full text/Total items : 66984/66984 (100%)
Visitors : 23031976      Online Users : 258
RC Version 7.0 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
Scope Tips:
  • please add "double quotation mark" for query phrases to get precise results
  • please goto advance search for comprehansive author search
  • Adv. Search
    HomeLoginUploadHelpAboutAdminister Goto mobile version


    Please use this identifier to cite or link to this item: http://ir.lib.ncu.edu.tw/handle/987654321/6690


    Title: 大面積低溫微波電漿輔助化學氣象沉積薄膜之研究
    Authors: 陳家豪;Chia-Hao Chen
    Contributors: 光電科學研究所
    Keywords: 微波電漿;薄膜;大面積;Large-area;microwave plasma;thin film
    Date: 2002-07-10
    Issue Date: 2009-09-22 10:25:56 (UTC+8)
    Publisher: 國立中央大學圖書館
    Abstract: 本實驗採用大面積化微波電漿輔助化學氣相沉積系統,研究沉積鑽石薄膜的最佳參數。本研究分為兩個階段,第一階段為改良天線陣列區Arc現象及測試系統的穩定度;第二階段,待系統穩定後,藉由改變系統總壓力及甲烷(CH4)、氫氣(H2)流量等參數,來研究對薄膜品質的影響。另外我們以拉曼散射光譜儀、X-ray繞射儀、掃描式電子顯微鏡及傅立葉紅外光譜儀來鑑定薄膜的特性。在氫氣(H2)流量300 sccm、甲烷(CH4)流量50 sccm、抽氣閥門控制開關在5%的位置、微波功率700W、鍍膜48小時,結果在電子顯微鏡下的表面顆粒結晶較多,經傅立葉紅外光譜儀分析沒有C-H鍵結,X-ray繞射儀沒有明顯的特性峰,薄膜表面結晶顆粒大約在10 nm ~ 20 nm之間。
    Appears in Collections:[光電科學研究所] 博碩士論文

    Files in This Item:

    File SizeFormat
    0KbUnknown993View/Open


    All items in NCUIR are protected by copyright, with all rights reserved.

    社群 sharing

    ::: Copyright National Central University. | 國立中央大學圖書館版權所有 | 收藏本站 | 設為首頁 | 最佳瀏覽畫面: 1024*768 | 建站日期:8-24-2009 :::
    DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - Feedback  - 隱私權政策聲明