中大機構典藏-NCU Institutional Repository-提供博碩士論文、考古題、期刊論文、研究計畫等下載:Item 987654321/6690
English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文筆數/總筆數 : 77786/77787 (100%)
造訪人次 : 39765886      線上人數 : 603
RC Version 7.0 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
搜尋範圍 查詢小技巧:
  • 您可在西文檢索詞彙前後加上"雙引號",以獲取較精準的檢索結果
  • 若欲以作者姓名搜尋,建議至進階搜尋限定作者欄位,可獲得較完整資料
  • 進階搜尋


    請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.lib.ncu.edu.tw/handle/987654321/6690


    題名: 大面積低溫微波電漿輔助化學氣象沉積薄膜之研究
    作者: 陳家豪;Chia-Hao Chen
    貢獻者: 光電科學研究所
    關鍵詞: 微波電漿;薄膜;大面積;Large-area;microwave plasma;thin film
    日期: 2002-07-10
    上傳時間: 2009-09-22 10:25:56 (UTC+8)
    出版者: 國立中央大學圖書館
    摘要: 本實驗採用大面積化微波電漿輔助化學氣相沉積系統,研究沉積鑽石薄膜的最佳參數。本研究分為兩個階段,第一階段為改良天線陣列區Arc現象及測試系統的穩定度;第二階段,待系統穩定後,藉由改變系統總壓力及甲烷(CH4)、氫氣(H2)流量等參數,來研究對薄膜品質的影響。另外我們以拉曼散射光譜儀、X-ray繞射儀、掃描式電子顯微鏡及傅立葉紅外光譜儀來鑑定薄膜的特性。在氫氣(H2)流量300 sccm、甲烷(CH4)流量50 sccm、抽氣閥門控制開關在5%的位置、微波功率700W、鍍膜48小時,結果在電子顯微鏡下的表面顆粒結晶較多,經傅立葉紅外光譜儀分析沒有C-H鍵結,X-ray繞射儀沒有明顯的特性峰,薄膜表面結晶顆粒大約在10 nm ~ 20 nm之間。
    顯示於類別:[光電科學研究所] 博碩士論文

    文件中的檔案:

    檔案 大小格式瀏覽次數


    在NCUIR中所有的資料項目都受到原著作權保護.

    社群 sharing

    ::: Copyright National Central University. | 國立中央大學圖書館版權所有 | 收藏本站 | 設為首頁 | 最佳瀏覽畫面: 1024*768 | 建站日期:8-24-2009 :::
    DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 隱私權政策聲明