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    題名: 方解石極性選擇繞射式光學元件設計與製作;Fabrication and Design of Polarization-sensitive Diffractive Optical Elements
    作者: 田浩廷;Hao-Ting Tien
    貢獻者: 光電科學研究所
    關鍵詞: 濕蝕刻;方解石;繞射式光學元件;calcite;wet etching;DOE's
    日期: 2003-07-09
    上傳時間: 2009-09-22 10:27:43 (UTC+8)
    出版者: 國立中央大學圖書館
    摘要: 論 文 摘 要 利用濕蝕刻的方法,製作出的閃耀式光柵(blazed grating),其blazed angle的大小依靠切割晶體的角度來決定,若是沿著光軸面切割,也能製作出V-Groove形狀的結構。本法的好處在於可以製做出各種角度的光柵,且能將尺度作至約在2μm左右,本文中將討論在哪種週期下的分光效果較好。 因為晶體具雙折射性質在其上塗佈折射率匹配(index matching)的材質,製作出偏極化選擇的繞射式光學元件,使之對入射光的偏極化方向具有選擇性,只讓特定偏極方向的光波產生繞射。又或者可鍍上金屬,作為反射式的光柵,可以使用在光纖通訊系統中。 本文中使用方解石晶體的非等向性濕蝕刻特性,製作閃耀式光柵(blazed grating),其週期在8?16μm,傾斜角度在10?15度。
    顯示於類別:[光電科學研究所] 博碩士論文

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