非晶矽繞射光學元件的製作與分析; Fabrication and Analysis of Amorphous Silicon Diffractive Optical Elements

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题名:	非晶矽繞射光學元件的製作與分析;Fabrication and Analysis of Amorphous Silicon Diffractive Optical Elements
作者:	陳建勳;Chien-Hsun Chen
贡献者:	物理研究所
关键词:	繞射光學元件;非晶矽;Amorphous silicon;DOEs
日期:	2005-06-24
上传时间:	2009-09-22 10:56:55 (UTC+8)
出版者:	國立中央大學圖書館
摘要:	本實驗主要目的為以電漿輔助化學氣相沉積系統(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition : PECVD)在石英基板上成長平坦的非晶矽薄膜，並進一步以平坦的非晶矽薄膜製作高繞射效率二階相位Fresnel lens。在實驗中，改變電漿輔助化學氣相沉積系統的SiH4氣體流量、腔體工作壓力、RF power大小，成功沉積出表面粗度小於3nm的非晶矽薄膜。製作非晶矽薄膜二階相位Fresnel lens時，我們以G-solver軟體模擬及理論計算，求出當以入射光波長633nm，元件所需厚度，以期達到高繞射效率。再利用微影製程及蝕刻技術，製作出二階相位Fresnel lens，當厚度為320nm，有最高繞射效率可達32%，與模擬值34%相當接近。
显示于类别:	[物理研究所] 博碩士論文

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