中大機構典藏-NCU Institutional Repository-提供博碩士論文、考古題、期刊論文、研究計畫等下載:Item 987654321/9738
English  |  正體中文  |  简体中文  |  Items with full text/Total items : 80990/80990 (100%)
Visitors : 41649121      Online Users : 1421
RC Version 7.0 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
Scope Tips:
  • please add "double quotation mark" for query phrases to get precise results
  • please goto advance search for comprehansive author search
  • Adv. Search
    HomeLoginUploadHelpAboutAdminister Goto mobile version


    Please use this identifier to cite or link to this item: http://ir.lib.ncu.edu.tw/handle/987654321/9738


    Title: 氮化鎵發光二極體製程技術之研究;Process of GaN-based Light-emitting Diode
    Authors: 陳銘勝;Ming-Sheng Chen
    Contributors: 電機工程研究所
    Keywords: 光取出效率;發光二極體;氮化鎵;n型氮化鎵歐姆接觸;GaN;LED;extraction effciency;n-type GaN ohmic contact
    Date: 2003-07-05
    Issue Date: 2009-09-22 11:54:53 (UTC+8)
    Publisher: 國立中央大學圖書館
    Abstract: 本篇論文分別針對氮化鎵發光二極體製程技術中之n型歐姆接觸電極與提升光取出效率方面進行研究分析。在n型歐姆接觸方面,製作Ti/WSix/Ti/Au歐姆接觸電極,在Ti/WSi0.05/Ti/Au (200/400/200/2000 Å)於氮氣環境下800oC、3分鐘熱處理後,可得特徵電阻值約1×10-6 Ω-cm2,不論在穩定性和反射率方面皆較傳統的鈦/鋁/鈦/金電極為佳;在提升光取出效率方面,利用表面圖樣化的方式增進氮化鎵發光二極體光取出效率,由模擬計算可知其對光取出效率有20%的提升,然而由於實驗技術未充分掌握,使得結果不如預期,若能將圖樣的製作技術加改善,必能對發光二極體的光取出效率有所助益。
    Appears in Collections:[Graduate Institute of Electrical Engineering] Electronic Thesis & Dissertation

    Files in This Item:

    File SizeFormat


    All items in NCUIR are protected by copyright, with all rights reserved.

    社群 sharing

    ::: Copyright National Central University. | 國立中央大學圖書館版權所有 | 收藏本站 | 設為首頁 | 最佳瀏覽畫面: 1024*768 | 建站日期:8-24-2009 :::
    DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 隱私權政策聲明