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    題名: 深次微米金氧半電晶體之高頻元件分析與其在高頻電路上應用;The Characteristics of Sub-micro CMOS technology and Analysis Application in RFIC Design
    作者: 陳怡伶;Yi-Ling Chen
    貢獻者: 電機工程研究所
    關鍵詞: 高頻元件;次微米電晶體;sub-micro MOSFET;high frequency device
    日期: 2005-06-22
    上傳時間: 2009-09-22 11:59:22 (UTC+8)
    出版者: 國立中央大學圖書館
    摘要: 本論文以矽半導體製程,所製作之高頻金氧半電晶體為主軸,藉由與矽晶圓廠之計畫合作案,來了解次微米元件特性,並學習設計射頻電路。 首先於第二章裡,針對0.13μm製程之P型金氧半電晶體,利用高頻量測系統測試元件,並藉由所量得之資料,加以探討元件於50 MHz~20.05 GHz之高頻特色,並試著建立其高頻元件模型,並針對元件之高頻與功率特性,討論其最佳之佈局。 在第三章中,相同藉由量測0.13μm P型金氧半電晶體元件,於高頻與低頻下之雜訊表現,並比較N型與P型金氧半電晶體之低頻雜訊。相同地,亦針對元件之雜訊特性,討論其最佳之佈局。 第四章裡,利用0.18μm之1P6M製程,試著設計915 MHz之被動式射頻辨識系統。 With the technology of Si-base device scaling down, CMOS had the better high frequency performance to design the consumption wireless products. Thus, this thesis is a study with the sub-micron CMOS technology. It had understood the high frequency characteristic by cooperating with the project of the silicon foundry, and learned the radio frequency circuit design. In chapter 2 and 3, it will be to discuss the high frequency, power performance and noise characteristic of 0.13μm CMOS high frequency devices. Then, t the optimum layout structure for theses performances will be considered and defined. A passive UHF RFID system was described in chapter 4. Some frond-end circuits of the reader terminal will be tried to realize by using 0.18μm 1P6M CMOS process.
    顯示於類別:[電機工程研究所] 博碩士論文

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