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    題名: An atmospheric-pressure plasma process for C2F6 removal
    作者: Chang,MB;Yu,SJ
    貢獻者: 環境工程研究所
    關鍵詞: ABATEMENT;EMISSIONS;CF4
    日期: 2001
    上傳時間: 2010-07-06 16:13:48 (UTC+8)
    出版者: 中央大學
    摘要: Perfluorocompounds (PFCs) are widely used in the semiconductor industry for plasma etching and chemical vapor deposition (CVD). They are relatively inert gases that intensely absorb infrared radiation and, therefore, aggravate the greenhouse effect. A ben
    關聯: ENVIRONMENTAL SCIENCE & TECHNOLOGY
    顯示於類別:[環境工程研究所 ] 期刊論文

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