Large-area Co-silicide nanodot arrays produced by colloidal nanosphere lithography and thermal annealing

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题名:	Large-area Co-silicide nanodot arrays produced by colloidal nanosphere lithography and thermal annealing
作者:	Cheng,S. L.;Wong,S. L.;Lu,S. W.;Chen,H.
贡献者:	材料科學與工程研究所
关键词:	THIN-FILMS;FABRICATION;COSI2;GROWTH;NANOSTRUCTURES;NANOPARTICLE
日期:	2008
上传时间:	2010-07-06 15:57:55 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	We report here the Successful fabrication of large-area size-tunable periodic arrays of cobalt and Co-silicide nanodots on silicon Substrates by employing the colloidal nanosphere lithography (NSL) technique and heat treatments. The growth of low-resistiv
關聯:	ULTRAMICROSCOPY???
显示于类别:	[材料科學與工程研究所 ] 期刊論文

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