Abatement of sulfur hexafluoride emissions from the semiconductor manufacturing process by atmospheric pressure plasmas

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题名:	Abatement of sulfur hexafluoride emissions from the semiconductor manufacturing process by atmospheric pressure plasmas
作者:	Lee,HM;Chang,MB;Wu,KY
贡献者:	環境工程研究所
关键词:	DIELECTRIC BARRIER DISCHARGES;ION-MOLECULE REACTIONS;GAS-PHASE REACTIONS;RATE CONSTANTS;CHEMICAL-KINETICS;OZONE SYNTHESIS;H-ATOMS;SF6;ELECTRON;REMOVAL
日期:	2004
上传时间:	2010-07-06 16:12:02 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	Sulfur hexafluoride (SF6) is an important gas for plasma etching processes in the semiconductor industry. SF6 intensely absorbs infrared radiation and, consequently, aggravates global warming. This study investigates SF6 abatement by nonthermal plasma tec
關聯:	JOURNAL OF THE AIR & WASTE MANAGEMENT ASSOCIATION
显示于类别:	[環境工程研究所 ] 期刊論文

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