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    題名: Low-operation voltage of InGaN/GaN light-emitting diodes by using a Mg-doped Al0.15Ga0.85N/GaN superlattice
    作者: Sheu,JK;Chi,GC;Jou,MJ
    貢獻者: 光電科學研究中心
    關鍵詞: INDIUM TIN OXIDE;P-TYPE GAN;CONTACTS
    日期: 2001
    上傳時間: 2010-07-07 15:51:11 (UTC+8)
    出版者: 中央大學
    摘要: Low-resistivity Mg-doped Al0.15Ga0.85N/GaN strained-layer superlattices were grown. In these superlattices, the maximum hole concentration is 3 x 10(18)/cm(3) at room temperature. Hall-effect measurements indicate high conductivity of this structure in wh
    關聯: IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS
    顯示於類別:[光電科學研究中心] 期刊論文

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