常壓氫電漿擴散在磷化銦智切法上之研究; Blistering in InP/InGaAs/InP p-i-n strucrure via hydrogen diffusion by atmospheric pressure plasma for Ion-Cut process

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题名:	常壓氫電漿擴散在磷化銦智切法上之研究;Blistering in InP/InGaAs/InP p-i-n strucrure via hydrogen diffusion by atmospheric pressure plasma for Ion-Cut process
作者:	蔡勖升;Hsu-sheng Tsai
贡献者:	材料科學與工程研究所
关键词:	常壓電漿;智切法;磷化銦;InP;atmospheric pressure plasma;smart cut process
日期:	2010-07-05
上传时间:	2010-12-08 13:39:20 (UTC+8)
出版者:	國立中央大學
摘要:	常壓氫電漿擴散在磷化銦智切法上之研究 Blistering in InP/InGaAs/InP p-i-n strucrure via hydrogen diffusion by atmospheric pressure plasma for Ion-Cut process
显示于类别:	[材料科學與工程研究所 ] 博碩士論文

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