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作者
档案
[光電科學與工程學系] 期刊論文
2003
Fabry-Perot structures for attenuated phase-shifting mask application in ArF and F-2 lithography
Chen,HL
;
Wu,HS
;
Lee,CC
;
Ko,FH
;
Fan,W
;
Hsieh,CI
[光電科學研究所] 期刊論文
2009
Reduction of polarization and swing effects in a high numerical aperture exposure system by utilizing resist antireflective coatings
Chen,HL
;
Lee,WH
;
Fan,W
;
Chuang,SY
;
Lai,YH
;
Lee,CC
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