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    題名: 研究奈晶矽與非晶矽之多層結構經熱退火處理後之性質及其在PIN太陽能電池吸收層中之應用;Thermal Annealing Treatments on Nanocrystalline and Amorphous Silicon Multilayers and its Applications on the Absorber of PIN Solar Cells
    作者: 謝志堅;Chih-chien Hsieh
    貢獻者: 材料科學與工程研究所
    關鍵詞: 晶粒尺寸;結晶率;氫化微晶矽薄膜;微結構比例;氫含量;氫化非晶矽薄膜;電漿增強型化學氣相沈積系統;microstructure fraction;hydrogen content;grain size;crystalline fraction;plasma-enhanced chemical vapor deposition;hydrogenated amorphous silicon;hydrogenated microcrystalline silicon
    日期: 2010-08-19
    上傳時間: 2010-12-08 13:39:39 (UTC+8)
    出版者: 國立中央大學
    摘要: 研究奈晶矽與非晶矽之多層結構經熱退火處理後之性質及其在PIN太陽能電池吸收層中之應用 Thermal Annealing Treatments on Nanocrystalline and Amorphous Silicon Multilayers and its Applications on the Absorber of PIN Solar Cells
    顯示於類別:[材料科學與工程研究所 ] 博碩士論文

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