矽基奈米結構具有許多優異的性質，廣泛應用半導體 矽基奈米結構具有許多優異的性質，廣泛應用半導體 矽基奈米結構具有許多優異的性質，廣泛應用半導體 矽基奈米結構具有許多優異的性質，廣泛應用半導體 矽基奈米結構具有許多優異的性質，廣泛應用半導體 矽基奈米結構具有許多優異的性質，廣泛應用半導體 矽基奈米結構具有許多優異的性質，廣泛應用半導體 矽基奈米結構具有許多優異的性質，廣泛應用半導體 矽基奈米結構具有許多優異的性質，廣泛應用半導體 矽基奈米結構具有許多優異的性質，廣泛應用半導體 矽基奈米結構具有許多優異的性質，廣泛應用半導體 、光電 、生 醫及能源領域中，因此發展製程技術扮演著關鍵的 角色而其醫及能源領域中，因此發展製程技術扮演著關鍵的 角色而其醫及能源領域中，因此發展製程技術扮演著關鍵的 角色而其醫及能源領域中，因此發展製程技術扮演著關鍵的 角色而其醫及能源領域中，因此發展製程技術扮演著關鍵的 角色而其醫及能源領域中，因此發展製程技術扮演著關鍵的 角色而其醫及能源領域中，因此發展製程技術扮演著關鍵的 角色而其醫及能源領域中，因此發展製程技術扮演著關鍵的 角色而其醫及能源領域中，因此發展製程技術扮演著關鍵的 角色而其醫及能源領域中，因此發展製程技術扮演著關鍵的 角色而其醫及能源領域中，因此發展製程技術扮演著關鍵的 角色而其矽 奈米線製備有許多的方法， 奈米線製備有許多的方法， 奈米線製備有許多的方法， 奈米線製備有許多的方法， 奈米線製備有許多的方法， 其中 最常 製備成奈米線 製備成奈米線 製備成奈米線 是使用氫氟酸與硝 是使用氫氟酸與硝 是使用氫氟酸與硝 是使用氫氟酸與硝 酸銀直接製作出奈米顆粒 酸銀直接製作出奈米顆粒 酸銀直接製作出奈米顆粒 酸銀直接製作出奈米顆粒 ，再利用金屬輔助蝕刻出 再利用金屬輔助蝕刻出 再利用金屬輔助蝕刻出 矽奈米線 。本實 驗為了探討 為了探討 利用 氫氧化鉀 氫氧化鉀 做表面處理 做表面處理 做表面處理 後，預先 形成不同尺寸 形成不同尺寸 形成不同尺寸 的金字塔 的金字塔 微結構 ，再使用硝酸銀 使用硝酸銀 、硼氫化鈉與 硼氫化鈉與 檸檬酸鈉產生出奈米銀顆粒沉積 檸檬酸鈉產生出奈米銀顆粒沉積 檸檬酸鈉產生出奈米銀顆粒沉積 檸檬酸鈉產生出奈米銀顆粒沉積 檸檬酸鈉產生出奈米銀顆粒沉積 在經過表面處理之後的矽，再利用這些 在經過表面處理之後的矽，再利用這些 在經過表面處理之後的矽，再利用這些 在經過表面處理之後的矽，再利用這些 在經過表面處理之後的矽，再利用這些 在經過表面處理之後的矽，再利用這些 在經過表面處理之後的矽，再利用這些 在經過表面處理之後的矽，再利用這些 沉積的 沉積的 銀金屬顆粒輔助化 金屬顆粒輔助化 金屬顆粒輔助化 金屬顆粒輔助化 學蝕刻出 陣列 奈米線， 奈米線， 奈米線， 奈米線， 藉由電子顯微鏡觀察矽表面的奈米結構形貌 藉由電子顯微鏡觀察矽表面的奈米結構形貌 藉由電子顯微鏡觀察矽表面的奈米結構形貌 藉由電子顯微鏡觀察矽表面的奈米結構形貌 藉由電子顯微鏡觀察矽表面的奈米結構形貌 藉由電子顯微鏡觀察矽表面的奈米結構形貌 及 影像分析等性質討論。經一系列實驗的發現，矽表面由 影像分析等性質討論。經一系列實驗的發現，矽表面由 影像分析等性質討論。經一系列實驗的發現，矽表面由 影像分析等性質討論。經一系列實驗的發現，矽表面由 影像分析等性質討論。經一系列實驗的發現，矽表面由 影像分析等性質討論。經一系列實驗的發現，矽表面由 影像分析等性質討論。經一系列實驗的發現，矽表面由 影像分析等性質討論。經一系列實驗的發現，矽表面由 影像分析等性質討論。經一系列實驗的發現，矽表面由 影像分析等性質討論。經一系列實驗的發現，矽表面由 影像分析等性質討論。經一系列實驗的發現，矽表面由 影像分析等性質討論。經一系列實驗的發現，矽表面由 氫氧化鉀 氫氧化鉀 蝕 刻過後的表面可 刻過後的表面可 沉積 較多的銀顆粒 ，而另合成較多的銀顆粒 ，而另合成較多的銀顆粒 ，而另合成較多的銀顆粒 ，而另合成較多的銀顆粒 ，而另合成較多的銀顆粒 ，而另合成粒徑 會因為 溫度 的不同 而有所的不同 而有所的不同 而有所，而藉由奈米銀顆粒的 變化可得到更細小及緻密而藉由奈米銀顆粒的 變化可得到更細小及緻密而藉由奈米銀顆粒的 變化可得到更細小及緻密而藉由奈米銀顆粒的 變化可得到更細小及緻密而藉由奈米銀顆粒的 變化可得到更細小及緻密而藉由奈米銀顆粒的 變化可得到更細小及緻密而藉由奈米銀顆粒的 變化可得到更細小及緻密而藉由奈米銀顆粒的 變化可得到更細小及緻密奈米線。;In recent years, silicon nanostructure has received great deal of attention from its unique surface effects. The use of silicon nanostructure has been applied to a wide variety of fields including semiconductor, optoelectronic, biological and energy field. Therefore, the fabrication technique developing silicon nanostructure becomes an intriguing topic for researchers. Preparation of silicon nanostructure has many ways. In the past, the common silicon nanostructure was prepared by using hydrofluoric acid and silver nitrate produce nano-silver particles for metal-assist chemical etching. In this experiment, we explore the use of sodium hydroxide surface treatment for silver particles formation. Next, silver nitrate, sodium tetrahydridoborate and sodium citrate produced nano silver particles, which are deposited on the surface-treated silica after reuse the nano silver particles assist chemical etching nanowires. Though electron morphology and properties of nano structure silicon surface image analysis we designed a series of experiments, firstly the silicon surface by potassium hydroxide etching can be deposited more the silver particles. Secondly synthesis of silver particles in solution at different temperatures because particle sizes vary in different temperatures. With the change of nano-silver particles, we can obtain finer and dense nanowire.
