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    題名: 非晶矽繞射光學元件的製作與分析;Fabrication and Analysis of Amorphous Silicon Diffractive Optical Elements
    作者: 陳建勳;Chien-Hsun Chen
    貢獻者: 物理研究所
    關鍵詞: 繞射光學元件;非晶矽;Amorphous silicon;DOEs
    日期: 2005-06-24
    上傳時間: 2009-09-22 10:56:55 (UTC+8)
    出版者: 國立中央大學圖書館
    摘要: 本實驗主要目的為以電漿輔助化學氣相沉積系統(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition : PECVD)在石英基板上成長平坦的非晶矽薄膜，並進一步以平坦的非晶矽薄膜製作高繞射效率二階相位Fresnel lens。 在實驗中，改變電漿輔助化學氣相沉積系統的SiH4氣體流量、腔體工作壓力、RF power大小，成功沉積出表面粗度小於3nm的非晶矽薄膜。 製作非晶矽薄膜二階相位Fresnel lens時，我們以G-solver軟體模擬及理論計算，求出當以入射光波長633nm，元件所需厚度，以期達到高繞射效率。再利用微影製程及蝕刻技術，製作出二階相位Fresnel lens，當厚度為320nm，有最高繞射效率可達32%，與模擬值34%相當接近。
    顯示於類別:[物理研究所] 博碩士論文

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