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    題名: Processing and device performance of GaN power rectifiers
    作者: Zhang,AP;Dang,GT;Cao,XA;Cho,H;Ren,F;Han,J;Chyi,JI;Lee,CM;Nee,TE;Chuo,CC;Chi,GC;Chu,SNG;Wilson,RG;Pearton,SJ
    貢獻者: 電機工程研究所
    日期: 2000
    上傳時間: 2010-07-06 18:36:23 (UTC+8)
    出版者: 中央大學
    摘要: Mesa and planar geometry GaN Schottky rectifiers were fabricated on 3-12 mum thick epitaxial layers. In planar diodes utilizing resistive GaN, a reverse breakdown voltage of 3.1 kV was achieved in structures containing p-guard rings and employing extensio
    關聯: MRS INTERNET JOURNAL OF NITRIDE SEMICONDUCTOR RESEARCH
    顯示於類別:[電機工程研究所] 期刊論文

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